2024-4-28二手设备列表 |
|
|
ID |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
1873 |
NISSIN NH-20SR离子注入机 |
NISSIN日新 |
NH-20SR |
- |
6" |
国内
|
1872 |
打标机 |
NEC Laser Automation |
SL-473F |
1997 |
5" |
国内
|
1871 |
烘箱 |
DAN SCIENCE |
DI-200H-AR |
- |
6" |
国内
|
1870 |
TEL MAC-92CV掩膜版测试仪 |
TEL |
MAC-92CV |
- |
6" |
国内
|
1869 |
电阻率测试仪 |
NAPSON |
RG-8 |
- |
6" |
国内
|
1868 |
旋转涂膜机 |
Dainippon Screen MFC |
SCW-622-BV |
- |
6" |
国内
|
1867 |
NIKON NSR 1505G6E光刻机 |
NIKON |
NSR-1505G6E |
1998 |
6" |
国内
|
1866 |
NIKON NSR 1505G6E光刻机 |
NIKON |
NSR-1505G6E |
1998 |
6" |
国内
|
1865 |
NITTO SEIKI Detaper去膜机 |
NITTO SEIKI |
Detaper |
- |
6" |
国内
|
1864 |
Nanometrics M-215膜厚测量仪 |
Nanometrics |
M-215 |
1989.05 |
6" |
国内
|
1863 |
Nanometrics M-215膜厚测量仪 |
Nanometrics |
M-215 |
1989.05 |
6" |
国内
|
1862 |
USHIO UMA-802-H55RM紫外线固胶机 |
USHIO |
UMA-802-H55RM |
- |
6" |
国内
|
1861 |
USHIO UMA-802-H55RM紫外线固胶机 |
USHIO |
UMA-802-H55RM |
- |
6" |
国内
|
1860 |
USHIO UMA-802-HC55RM紫外线固胶机 |
USHIO |
UMA-802-HC551RM |
- |
6" |
国内
|
1859 |
USHIO UMA-802-HC55RM紫外线固胶机 |
USHIO |
UMA-802-HC55RM |
- |
6" |
国内
|
1858 |
检版机 |
|
VPRA-6 |
- |
6" |
国内
|
1857 |
NIKON NSR SF120光刻机 |
NIKON |
NSR-SF120 |
- |
12" 缺件 |
国内
|
1856 |
NIKON NSR SF120光刻机 |
NIKON |
NSR-SF120 |
- |
12" 缺件 |
国内
|
1855 |
NIKON NSR SF130光刻机 |
NIKON |
NSR-SF130 |
- |
12" 缺件 |
国内
|
1854 |
NIKON NSR 4425i光刻机 |
NIKON |
NSR-4425i |
1995.1 |
8" 缺件 |
国内
|
1853 |
NIKON NSR 1755i7A光刻机 |
NIKON |
NSR-1755i7A |
1990.9 |
6" 缺件 |
国内
|
1852 |
NIKON NSR 2005i8A光刻机 |
NIKON |
NSR-2005i8A |
- |
6" |
国内
|
1851 |
TEL Lithius涂胶显影机 |
TEL |
Lithius |
2005.3 |
8" |
国内
|
1850 |
Toho technology H840A甩干机 |
Toho technology |
H840A |
- |
6" |
国内
|
1849 |
Toho technology H841A甩干机 |
Toho technology |
H841A |
- |
6" |
国内
|
1848 |
Arbrown SPD-160RN甩干机 |
Arbrown |
SPD-160RN |
- |
6" |
国内
|
1847 |
Arbrown H1220RNN甩干机 |
Arbrown |
H1220RNN |
- |
6" |
国内
|
1846 |
甩干机 |
SCREEN |
R1W-811 |
- |
6" |
国内
|
1845 |
Varian 120XP大束流离子注入机 |
Varian |
120XP |
1989.9 |
6"大束流 |
国内
|
1844 |
NIKON NSR 2005i8A光刻机 |
NIKON |
NSR-2005i8A |
- |
6" 备件机 |
国内
|
1843 |
NIKON NSR 1505G7E光刻机 |
NIKON |
NSR-1505G7E |
- |
6"备件机 |
国内
|
1842 |
NIKON NSR 1505G6E光刻机 |
NIKON |
NSR-1505G6E |
- |
6"备件机 |
国内
|
1841 |
KOKUSAI DD-803V扩散炉 |
KOKUSAI |
DD-803V |
1991.7 |
6" |
国内
|
1840 |
TECHNOS TREX610T缺陷测试仪 |
TECHNOS |
TREX610T |
- |
6" |
国内
|
1839 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1997.3 |
8" |
国内
|
1838 |
涂胶机 |
SVG |
SVG8800 |
- |
6" |
国内
|
1837 |
涂胶机 |
SVG |
SVG8800 |
- |
6" |
国内
|
1836 |
显影机 |
SVG |
SVG8800 |
- |
6" |
国内
|
1835 |
显影机 |
SVG |
SVG8800 |
- |
6" |
国内
|
1834 |
烘箱 |
|
Yes-1 |
- |
6" |
国内
|
1833 |
旋涂机(3个工位) |
MIKASA |
3H-D3 |
1991 |
- |
国外
|
1832 |
DAILITE S-488旋涂机 |
DAILITE |
S-488 |
2002 |
- |
国外
|
1831 |
半自动浸涂布机 |
SDI COMPANY |
SA-0903 |
2009 |
设备名称:半自动浸涂机
型号 |
国外
|
1830 |
旋涂机 |
S&D |
SDC-600 |
2008 |
- |
国外
|
1829 |
旋转涂布机 |
MIKASA |
MS-A150 |
- |
- |
国外
|
1828 |
蚀刻装置 |
TOK |
TCE-3822 |
2011 |
设备名称:蚀刻装置
型号:T |
国外
|
1827 |
Panasonic E620I金属干法蚀刻机 |
Panasonic |
E620I |
2013 |
- |
国外
|
1826 |
CANON L-310R-E真空蚀刻设备(ECR) |
CANON |
L-310R-E |
1999 |
设备名称:真空蚀刻设备(ECR |
国外
|
1825 |
SAMCO RIE-200NL等离子蚀刻系统 |
SAMCO |
RIE-200NL |
2008 |
- |
已售出
|
1824 |
CANON L-201D-L真空蚀刻设备 |
CANON |
L-201D-L |
1998 |
- |
国外
|
1823 |
HITACHI DD-812V立式扩散炉 |
HITACHI |
DD-812V |
2007 |
- |
国外
|
1822 |
SAMCO PD-200STP CVD设备氧化硅膜 |
SAMCO |
PD-200STP |
2010 |
设备名称:液体原料CVD设备
|
国外
|
1821 |
SAMCO PD-10M等离子CVD设备(DLC薄膜) |
SAMCO |
PD-10M特 |
- |
- |
国外
|
1820 |
溅镀装置(DVD) |
芝浦机电一体化 |
S-200U |
2010 |
设备名称:溅镀装置(DVD)
|
国外
|
1819 |
CANON SPF-730 溅射设备 |
CANON |
SPF-730 |
- |
设备名称:溅射设备批量类型
|
国外
|
1818 |
CANON C-7960FL溅射装置(CtoC)单晶片型 |
CANON |
C-7960FL |
1998 |
- |
国外
|
1817 |
CANON L-501S-FHL溅射设备(CtoC) |
CANON |
L-501S-FHL |
2004 |
设备名称:溅射设备(CtoC) |
国外
|
1816 |
溅射装置(DVD) |
SHIBAURA |
COAT-7000 |
1999 |
- |
国外
|
1815 |
CANON L-332S-FH溅射设备 |
CANON |
L-332S-FH |
1998 |
- |
国外
|
1814 |
ULVAC SV-200批量式溅射设备 |
ULVAC爱发科 |
SV-200 |
2000 |
PVD |
国外
|
1813 |
溅射设备 |
JVC |
F0692 |
- |
- |
国外
|
1812 |
ULVAC SME-200E溅射设备 |
ULVAC爱发科 |
SME-200E |
2006 |
- |
国外
|
1811 |
CANON C-3103溅射设备 |
CANON |
C-3103 |
1996 |
设备名称:溅射设备
型号:C |
国外
|
1810 |
SHIBAURA COAT-7000溅镀装置 |
SHIBAURA |
COAT-7000 |
1999 |
DVD |
国外
|
1809 |
CANON 特型L-400EK-L薄膜沉积设备 |
CANON |
特型L-400EK-L |
2002 |
设备名称:薄膜沉积设备
型号 |
国外
|
1808 |
校对装置 |
AYUMI |
AL-60M |
2005 |
- |
国外
|
1807 |
晶圆・粉尘检测设备 |
TOPCON |
WM-3 |
- |
设备名称:晶圆粉尘检查设备
|
国外
|
1806 |
CANON PLA-600F光罩校准器 |
CANON |
PLA-600F |
- |
- |
国外
|
1805 |
CANON PLA-600光罩校准器 |
CANON |
PLA-600 |
- |
- |
国外
|
1804 |
SHIMADZU ALLS-100X-33CⅡ液晶注入装置 |
SHIMADZU島津 |
ALIS-100X-33CⅡ |
2005 |
设备名称:液晶注⼊ |
国外
|
1803 |
Techno Rise TUVC150SO紫外线臭氧清洁设备 |
Techno Rise |
TUVC150SO |
2004 |
- |
国外
|
1802 |
光罩旋转清洁机 |
KMX |
MSC-150S-MS |
1999 |
- |
国外
|
1801 |
USHIO UIS-25103AA紫外线照射装置 |
USHIO |
UIS-25103AA |
2012 |
设备名称:紫外线照射装置
型 |
国外
|
1800 |
紫外线照射装置 |
ORC |
ORE4002A |
2005 |
设备名称:紫外线照射装置
型 |
国外
|
1799 |
旋转干燥机 |
AR BROWN |
SPD-160RN |
1995 |
- |
国外
|
1798 |
旋转漂洗干燥机 |
SEMITOOL |
SRD-470S |
- |
1、电源电压:1相100V 1 |
国外
|
1797 |
FPP用高压喷射水流装置 |
RIX |
JS-100-DD |
2005 |
- |
国外
|
1796 |
ULTRONICS UH108晶圆保护膜粘贴装置(覆膜机) |
ULTRONICS |
UH108 |
- |
设备名称:晶圆保护膜粘贴装置
|
国外
|
1795 |
ULTRONICS UH110晶圆保护膜剥离器(除膜机) |
ULTRONICS |
UH110 |
- |
设备名称:晶圆胶带剥离器
型 |
国外
|
1794 |
TAKATORI TRA-P晶圆转移装置转移机 |
TAKATORI |
TRA-P |
2004 |
设备名称:晶圆转移装置转移机
|
国外
|
1793 |
JEL转移机器人 |
JEL |
SHR3130S-200-PM-0092 |
- |
设备名称:转移机器Ҵ |
国外
|
1792 |
转移机器人 |
Brooks Automation |
MultiTran? 5/VacuTran? 5 |
- |
- |
国外
|
1791 |
晶圆转移机 |
IMES |
WTMC01 |
2008 |
- |
国外
|
1790 |
Daitron DDMT-200-E晶圆剥离装置 |
Daitron |
DDMT-200-E |
2011 |
- |
国外
|
1789 |
ULVAC PSS85/85红外灯加热装置可变气氛灯 |
ULVAC爱发科 |
PSS85/85 |
2008.6 |
设备名称:红外灯加热装置可变& |
国外
|
1788 |
YDK triton-EFEM晶圆传送设备 |
YDK |
triton-EFEM |
- |
- |
国外
|
1787 |
隔膜式真空层压机 |
NISHIKAWA西川制作所 |
EG-0901 |
2009 |
设备名称:均热散热板粘贴装置
|
国外
|
1786 |
曝光装置 |
Oak橡树制造 |
EXF-2005-B-00 |
2006 |
设备名称:光刻装置
型号:E |
国外
|
1785 |
DISCO DWR1721纯水循环装置 |
DISCO |
DWR1721 |
- |
- |
国外
|
1784 |
DISCO DWR1722纯水循环设备 |
DISCO |
DWR1722 |
2016 |
- |
国外
|
1783 |
DISCO EAD6340全自动切割机 |
DISCO |
EAD6340 |
- |
- |
国外
|
1782 |
DISCO DFL7340全自动激光切割机 |
DISCO |
DFL7340 |
- |
- |
国外
|
1781 |
HITACHI IMR-3-1离子铣削装置 |
HITACHI |
IMR-3-1 |
1992 |
设备名称:离⼦铣 |
国外
|
1780 |
NISHIKAWA EG-0901隔膜式真空层压机 |
NISHIKAWA |
EG-0901 |
2009 |
设备名称:均热散热板粘贴装置
|
国外
|
1779 |
倒装芯片键合机 |
Panasonic |
NM-SB50A |
2017 |
- |
国外
|
1778 |
Nordson XD7600NT X射线检测系统 |
Nordson |
XD7600NT |
2011 |
- |
国外
|
1777 |
DSI HCT2B28HEX-3退火炉 |
DSI |
HCT2B28HEX-3 |
2007 |
- |
国外
|
1776 |
Technovision FM-903S晶圆贴片机 |
Technovision |
FM-903S |
- |
- |
国外
|
1775 |
HITACHI WF-R55UV-H5微小线幅测定装置 |
HITACHI |
WF-R55UV-H5 |
2007 |
设备名称:微线宽测量装置
型 |
国外
|
1774 |
接合装置 阳级真空接合装置 |
Ayumi Industry |
BH-50 |
2009 |
设备名称:接合装置阳极真空接合 |
国外
|
1773 |
ULVAC RTA-4050红外灯加热炉 |
ULVAC爱发科 |
RTA-4050 |
2002 |
设备名称:红外线灯加热装置 R |
国外
|
1772 |
Futek Furnace VF-KH150 6寸基板加热炉 |
Futek Furnace |
VF-KH150 |
- |
设备名称:加热炉6英x |
国外
|
1771 |
OLED发布寿命测试 |
EHC |
ELS-100S |
- |
- |
国外
|
1770 |
USHIO CE-6000CH紫外线固化曝光设备 |
USHIO |
CE-6000CH |
2005 |
设备名称:6⼨晶 |
国外
|
1769 |
Electronic Plaza 2220⼤⽓压等离 |
Electronic Plaza |
2220 |
2010 |
设备名称:⼤ |
国外
|
1768 |
晶圆阻抗形状测试机 |
KOBELCO |
RPW-1000M |
2004 |
- |
国外
|
1767 |
BECKMAN OPTIMA XE-90落地式超速离心机 |
BECKMAN/COULTER |
OPTIMA XE-90 |
2014 |
- |
国外
|
1766 |
CV测试仪 |
Four Dimension |
CVmap 92A |
2014 |
设备名称:CV测试仪
型号: |
国外
|
1765 |
自动曝光对位机 |
MIKASA |
MA-20 |
1997 |
设备名称:对准曝光机
商品编 |
国外
|
1764 |
AMADA MS-TR4871激光修整装置 |
AMADA MIYACHI |
MS-TR4871 |
2012 |
设备名称:(HIC)修复装置
|
国外
|
1763 |
Technovision TW-300光掩膜清洗装置 |
Technovision |
TW-300 |
1997 |
设备名称:光罩清洗装置
型号 |
国外
|
1762 |
ULVAC PSS85/85可变氛围灯加热装置 |
ULVAC爱发科 |
PSS85/85 |
2008 |
设备名称:红外灯加热装置可变& |
国外
|
1761 |
ACCRETECH A-WD-5001A划片机 |
ACCRETECH东京精密 |
A-WD-5001A |
1999 |
- |
国外
|
1760 |
阳极真空键合设备 |
AYUMI |
AB-40A-S |
2007 |
- |
国外
|
1759 |
CLIMB PRODU SE330H覆膜机 |
CLIMB PRODU |
SE330H |
2009 |
设备名称:覆膜装置
型号:S |
国外
|
1758 |
ULVAC VHC-E416红外灯加热装置 |
ULVAC爱发科 |
VHC-E416 |
- |
设备名称:红外灯加热装置 |
国外
|
1757 |
HITACHI IMR-3-1离子铣削装置 |
HITACHI |
IMR-3-1 |
1992 |
设备名称:离⼦铣 |
国外
|
1756 |
ADVANCED LITMAS RPS远程等离子体源 |
ADVANCED ENERGYAE |
LITMAS RPS |
2020 |
设备名称:远程等离ҷ |
国外
|
1755 |
台式抛光机打磨机 |
Eyelash curler |
49-5100-115 |
- |
设备名称:台式抛光机打磨机
|
国外
|
1754 |
TF切断装置 |
Apic Yamada |
CS-813-1 |
1997 |
设备名称:TF切断装置
型号 |
国外
|
1753 |
圆度测量仪 |
Taylor Hobson |
TALYROND 265 |
2000 |
设备名称:圆度测量仪
型号: |
国外
|
1752 |
偏光板粘贴装置 |
⽯⼭制作所 |
FS0823 |
1997 |
- |
国外
|
1751 |
抗蚀剂剥离清洗装置 |
access |
MSR-360U |
- |
- |
国外
|
1750 |
SEN HCT2B28HEX-3紫外线照射固化装置 |
SEN |
HCT2B28HEX-3 |
- |
- |
国外
|
1749 |
⼩型台式等离⼦清洁器PiPi |
大和材料 |
PiPi |
2016 |
规格参数:
1、等离 |
国外
|
1748 |
CV测量装置 |
Four Dimension |
CV MAP 92A |
2014 |
设备名称:CV测量装置
型号 |
国外
|
1747 |
热油实试验机/通孔可靠性测试仪 |
SHIMAKAWA |
PH-500D |
2004 |
设备名称:热油实试验机/通孔可 |
国外
|
1746 |
Nanometrics M6100膜厚测定装置 |
Nanometrics |
M6100 |
- |
设备名称:膜厚测定装置
型号 |
国外
|
1745 |
纳米计量学 7200-2134膜厚测定装置 |
纳米计量学 |
7200-2134 |
- |
设备名称:膜厚测定装置
型号 |
国外
|
1744 |
Nanometrics M6100UV-L6膜厚测定装置 |
Nanometrics |
M6100UV-L6 |
- |
设备名称:膜厚测定装置
型号 |
国外
|
1743 |
Nanometrics M6100UV-L6膜厚测定装置 |
Nanometrics |
M6100UV-L6 |
- |
设备名称:膜厚测定装置
型号 |
国外
|
1742 |
Logitech 1PM52抛光机 |
Logitech |
1PM52 |
- |
设备名称:抛光机
型号:1P |
国外
|
1741 |
断线装置断线机 |
小坂研究所 |
JKB-505M |
- |
设备名称:断线装置断线机
型 |
国外
|
1740 |
Futec Furness VF-KH150加热炉6英寸基板加热炉 |
Futec Furness |
VF-KH150 |
- |
设备名称:加热炉6英x |
国外
|
1739 |
Adtech AXR-1000射频电源 |
Adtech |
AXR-1000 |
2008 |
设备名称:射频电源
型号:A |
国外
|
1738 |
追踪检查装置 |
OHT |
TTS-02 |
2004 |
设备名称:追踪检查装置
型号 |
国外
|
1737 |
回流炉-远红外台式回流焊装置 |
日本脉冲技术研究所 |
RF-330 |
2008 |
设备名称:回流炉
型号:RF |
国外
|
1736 |
钠灯 传输用复合照明装置 |
同润光机 |
KLTFNL-F404N18 |
2008 |
设备名称:钠灯传输ҽ |
国外
|
1735 |
大和材料 PiPi等离子处理设备 |
大和材料 |
PiPi |
2016 |
设备名称:等离⼦ |
国外
|
1734 |
MKS ENI RPG-50A直流电源脉冲直流等离子发生器 |
MKS ENI |
RPG-50A |
2008 |
设备名称:直流电源脉冲直流等离 |
国外
|
1733 |
长野科学CH43-W14P恒温槽 |
长野科学 |
CH43-W14P |
2008 |
设备名称:恒温槽
型号:CH |
国外
|
1732 |
玻璃破碎机 |
Joyo/Engineering |
JKB-500M-A-1 |
2004 |
设备名称:玻璃破碎机
型号: |
国外
|
1731 |
Electronic Plaza 2220高压等离子体装置 |
Electronic Plaza |
2220 |
2010 |
设备名称:⼤ |
国外
|
1730 |
ACF粘贴机 |
SIC |
NAL02-10 |
2005 |
设备名称:ACF粘贴机
型号 |
国外
|
1729 |
FUSION UV DRW-116Q-G紫外线照射装置 |
FUSION UV/SYSTEM |
DRW-116Q-G |
2013 |
- |
国外
|
1728 |
SII SFT9200 X射线荧光膜测厚仪 |
SII精工仪器 |
SFT9200 |
2003 |
设备名称:X射线荧光膜测厚仪
|
国外
|
1727 |
Nagase Integrex NSF-600平面磨床 |
Nagase Integrex |
NSF-600 |
2017 |
设备名称:平⾯磨 |
国外
|
1726 |
本⽥电⼦ W-100-HFMKⅡ超声波清洗机 |
本⽥电⼦ |
W-100-HFMKⅡ |
2001 |
设备名称:超声波清洗机
型号 |
国外
|
1725 |
测⼒计载荷测量推拉⼒计 |
爱科工程 |
MODEL-1605ⅡV |
2007 |
设备名称:测⼒计 |
国外
|
1724 |
RF电源 |
珍珠工业 |
RP-1000-13M |
1999 |
设备名称:RF电源
型号:R |
国外
|
1723 |
红外分光光度计 |
日本光谱 |
FT/IR-4100 IRT-5000 |
- |
设备名称:红外分光光度计
型 |
国外
|
1722 |
AOI检查设备板外观检查设备 |
INSPEC |
SX5300 |
2017 |
设备名称:AOI 检查设备板外 |
国外
|
1721 |
低温泵 |
HELIX CTI螺旋 |
ON-BOARD 8F |
- |
设备名称:低温泵
型号:ON |
国外
|
1720 |
STEC V-40高精度精密薄膜流量计 |
STEC |
V-40 |
- |
设备名称:薄膜流量计(测量单元 |
国外
|
1719 |
射频电源套装产品 |
京三 |
RFK75Z |
- |
设备名称:射频电源套装产品
|
国外
|
1718 |
光源紫外线照射装置冷光 |
莫⾥泰克斯 |
MUV-250U-L |
- |
设备名称:光源紫外线照射装置冷 |
国外
|
1717 |
ACCRETECH UF200探针台 |
ACCRETECH东京精密 |
UF200 |
2000 |
TEST |
国外
|
1716 |
ACCRETECH UF200探针台 |
ACCRETECH东京精密 |
UF200 |
- |
TEST |
国外
|
1715 |
ACCRETECH UF200探针台 |
ACCRETECH东京精密 |
UF200 |
1998 |
TEST |
国外
|
1714 |
ACCRETECH UF200A探针台 |
ACCRETECH东京精密 |
UF200A |
2003 |
TEST |
国外
|
1713 |
ACCRETECH UF200SA探针台 |
ACCRETECH东京精密 |
UF200SA |
2005 |
TEST |
国外
|
1712 |
ACCRETECH UF200SA探针台 |
ACCRETECH东京精密 |
UF200SA |
2005 |
TEST |
国外
|
1711 |
ACCRETECH UF200SA探针台 |
ACCRETECH东京精密 |
UF200SA |
2004 |
TEST |
国外
|
1710 |
ACCRETECH UF3000探针台 |
ACCRETECH东京精密 |
UF3000 |
2006 |
TEST |
国外
|
1709 |
ACCRETECH UF3000EX探针台 |
ACCRETECH东京精密 |
UF3000EX |
2014 |
TEST |
国外
|
1708 |
ADVANTEST 93000 C200e |
ADVANTEST (Verigy) |
93000 C200e |
2007 |
TEST |
国外
|
1707 |
Agilent 4072A |
Agilent |
4072A |
2004 |
TEST |
国外
|
1706 |
Agilent 4073A |
Agilent |
4073A |
2002 |
TEST |
国外
|
1705 |
Agilent 4142B |
Agilent |
4142B |
2000 |
TEST |
国外
|
1704 |
AMAT AKT-3500 |
AMAT应用材料 |
AKT-3500 |
2018 |
CVD |
国外
|
1703 |
AMAT Centura DPS |
AMAT应用材料 |
Centura DPS |
1998 |
ETCH |
国外
|
1702 |
AMAT Centura DXZ |
AMAT应用材料 |
Centura DXZ |
1999 |
CVD |
国外
|
1701 |
AMAT Centura MXP |
AMAT应用材料 |
Centura MXP |
1997 |
ETCH |
国外
|
1700 |
AMAT Centura XE |
AMAT应用材料 |
Centura XE |
2003 |
RTP |
国外
|
1699 |
AMAT Centura XE+ |
AMAT应用材料 |
Centura XE+ |
2003 |
RTP |
国外
|
1698 |
AMAT P-5000刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
P-5000 |
1990 |
CVD |
国外
|
1697 |
ASM Eagle10 PLASMA CVD |
ASM |
Eagle10 |
1998 |
CVD |
国外
|
1696 |
ASM Eagle10 PLASMA CVD |
ASM |
Eagle10 |
2007 |
CVD |
国外
|
1695 |
AP-CVD |
Aviza |
WJ-1000H |
1996 |
CVD |
国外
|
1694 |
CANON HP-8800 |
CANON |
HP-8800 |
2001 |
RTP |
国外
|
1693 |
CANON MAS-8200 |
CANON |
MAS-8200 |
- |
ETCH |
国外
|
1692 |
CANON MAS-8220 |
CANON |
MAS-8220 |
- |
ETCH |
国外
|
1691 |
CANON MPA-600FA |
CANON |
MPA-600FA |
1988 |
PHOTOLITHO |
国外
|
1690 |
CANON I-1060SV2 Plus1 |
CANON |
I-1060SV2 Plus1 |
1999 |
PVD |
国外
|
1689 |
CANON I-1080 PVD |
CANON |
I-1080PVD |
2001 |
PVD |
国外
|
1688 |
CANON ILC-1080 |
CANON |
ILC-1080 |
2003 |
PVD |
国外
|
1687 |
CANON M-222LD-D |
CANON |
M-222LD-D |
2011 |
OTHERS |
国外
|
1686 |
DISCO DAD3350晶圆切割机 |
DISCO |
DAD3350 |
- |
DICING |
国外
|
1685 |
DISCO DCS141清洗机 |
DISCO |
DCS141 |
- |
DICING |
国外
|
1684 |
DISCO DFD-2S/8 |
DISCO |
DFD-2S/8 |
- |
DICING |
国外
|
1683 |
DISCO DFD6240划片机 |
DISCO |
DFD6240 |
2004 |
DICING |
国外
|
1682 |
DISCO DFD6340全自动切割机 |
DISCO |
DFD6340 |
2008 |
DICING |
国外
|
1681 |
GAS SCRUBBER |
EBARA |
GDC250SA |
2012 |
OTHERS |
国外
|
1680 |
PLATING |
EBARA |
UFP100(150A) |
- |
PLATING |
国外
|
1679 |
ESI 9350 |
ESI |
9350 |
2004 |
TEST |
国外
|
1678 |
FILM STRESS MEASURMENT |
FSM |
FSM-128 |
2001 |
METROLOGY |
国外
|
1677 |
FILM STRESS MEASURMENT |
FSM |
FSM-128 |
- |
METROLOGY |
国外
|
1676 |
GSI MARK-EM Wafer Marker |
GSI |
MARK-EM |
2002 |
MARKING |
国外
|
1675 |
HITACHI IML-6-1 |
HITACHI |
IML-6-1 |
1997 |
ETCH |
国外
|
1674 |
HITACHI TS-3700扫描电子显微镜 |
HITACHI |
TS-3700 |
1990 |
OTHERS |
国外
|
1673 |
HITACHI TS-6500 |
HITACHI |
TS-6500 |
2000 |
OTHERS |
国外
|
1672 |
HITACHI FIB-2100聚焦离子束 |
HITACHI |
FB-2100 |
2002 |
METROLOGY |
国外
|
1671 |
HITACHI IM4000离子研磨仪 |
HITACHI |
IM4000 |
2012 |
ETCH |
国外
|
1670 |
HITACHI NE4000扫描电子显微镜 |
HITACHI |
NE4000 |
2011 |
METROLOGY |
国外
|
1669 |
HITACHI S-3400N扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-3400N |
2010 |
METROLOGY |
国外
|
1668 |
HITACHI S-3700N扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-3700N |
2012 |
METROLOGY |
国外
|
1667 |
HITACHI S-4500扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-4500 |
1996 |
METROLOGY |
国外
|
1666 |
HITACHI S-4800扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S-4800 |
2004 |
METROLOGY |
国外
|
1665 |
HITACHI TM3000扫描电子显微镜 |
HITACHI |
TM3000 |
2012 |
METROLOGY |
国外
|
1664 |
KEYENCE ML-Z9500/9510 |
KEYENCE |
ML-Z9500/9510 |
2008 |
MARKING |
国外
|
1663 |
KLA AITⅡ缺陷检测仪 |
KLA科磊 |
AITⅡ |
1999 |
METROLOGY |
国外
|
1662 |
KLA ARCHER200叠对测量系统 |
KLA科磊 |
ARCHER200 |
2009 |
METROLOGY |
国外
|
1661 |
KLA EDR-5210S晶圆缺陷检查系统 |
KLA科磊 |
EDR-5210S |
2011 |
METROLOGY |
国外
|
1660 |
KLA Tencor UV-1280SE薄膜测量系统 |
KLA科磊 |
UV1280SE |
2003 |
METROLOGY |
国外
|
1659 |
LIFETIME MEASURING |
KOBELCO |
LTA-500 |
1996 |
METROLOGY |
国外
|
1658 |
LIFETIME MEASURING |
KOBELCO |
LTA-550 |
1991 |
METROLOGY |
国外
|
1657 |
WIRE BONDER |
Kulicke & Soffa |
Maxum ultra |
2008 |
BONDING |
国外
|
1656 |
WIRE BONDER |
Kulicke & Soffa |
Maxum ultra |
2008 |
BONDING |
国外
|
1655 |
LAM ONE-W PLASMA CVD_W |
LAM泛林 |
ONE-W |
1995 |
CVD |
国外
|
1654 |
LAM TWO PLASMA CVD |
LAM泛林 |
TWO |
2000 |
CVD |
国外
|
1653 |
LAM TWO Speed PLASMA CVD |
LAM泛林 |
TWO Speed |
2000 |
CVD |
国外
|
1652 |
LAM RST201刻蚀机 |
LAM泛林 |
RST201 |
1996 |
WET |
国外
|
1651 |
LAM RST201刻蚀机 |
LAM泛林 |
RST201 |
1997 |
WET |
国外
|
1650 |
LAM SEZ203晶圆旋转刻蚀机 |
LAM泛林 |
SEZ203 |
2005 |
WET |
国外
|
1649 |
LINTEC RAD-2000M |
LINTEC |
RAD-2000M |
2005 |
6" DICING |
国外
|
1648 |
LINTEC RAD-2000M |
LINTEC |
RAD-2000M |
2006 |
8" DICING |
国外
|
1647 |
LINTEC RAD-2500M |
LINTEC |
RAD-2500M |
2007 |
8" MOUNTING |
国外
|
1646 |
Nanometrics M6100膜厚测定装置 |
Nanometrics |
M6100 |
1998 |
METROLOGY |
国外
|
1645 |
Nanometrics NanoSpec9200 |
Nanometrics |
NanoSpec9200 |
2001 |
METROLOGY |
国外
|
1644 |
Nanometrics NanoSpec9310 |
Nanometrics |
NanoSpec9310 |
2008 |
METROLOGY |
国外
|
1643 |
NIKON NSR 2005i10C光刻机 |
NIKON |
NSR-2005i10C |
1994 |
PHOTOLITHO |
国外
|
1642 |
NIKON NSR 2205EX14C光刻机 |
NIKON |
NSR-2205EX14C |
1998 |
PHOTOLITHO |
国外
|
1641 |
NIKON NSR 2205EX14C光刻机 |
NIKON |
NSR-2205EX14C |
1999 |
PHOTOLITHO |
国外
|
1640 |
NIKON NSR 4425i光刻机 |
NIKON |
NSR-4425i |
1997 |
PHOTOLITHO |
国外
|
1639 |
NuFlare Technology HT2000B |
NuFlare Technology |
HT2000B |
2007 |
CVD |
国外
|
1638 |
CMP |
Okamoto |
SPP-600S GRIND |
1998 |
CMP |
国外
|
1637 |
SUPERCRITICAL RINSER&DRYER |
Rexxam |
SCRD6 |
2008 |
WET |
国外
|
1636 |
FILM THICKNESS MEASUREMENT |
Rudolph |
S200ETCH |
2000 |
METROLOGY |
国外
|
1635 |
SCREEN AS2000 |
SCREEN |
AS2000 |
1998 |
WET |
国外
|
1634 |
SCREEN AS2000 |
SCREEN |
AS2000 |
1998 |
WET |
国外
|
1633 |
SCREEN AS2000 |
SCREEN |
AS2000 |
2000 |
WET |
国外
|
1632 |
RTA |
SCREEN |
LA-830 |
- |
RTP |
国外
|
1631 |
SCREEN SK-80BW-AVQ |
SCREEN |
SK-80BW-AVQ |
1998 |
PHOTOLITHO |
国外
|
1630 |
WAFER SCRUBBER |
SCREEN |
SS-W80A-AR |
1995 |
WET |
国外
|
1629 |
WAFER SCRUBBER |
SCREEN |
SS-W80A-AR |
2000 |
WET |
国外
|
1628 |
WAFER SCRUBBER |
SCREEN |
SS-W80A-AVR |
1998 |
WET |
国外
|
1627 |
WAFER SCRUBBER |
SCREEN |
SS-W80A-AVR |
2002 |
WET |
国外
|
1626 |
FILM THICKNESS MEASUREMENT |
SOPRA |
GESP5 |
2010 |
METROLOGY |
国外
|
1625 |
MO CVD |
TAIYO NIPPON SANSO |
SR64212HKS |
2010 |
CVD |
国外
|
1624 |
AUTOMATIC VISUAL INSPECTION |
TAKANO (TOPCON) |
Vi-4202 |
2004 |
METROLOGY |
国外
|
1623 |
TAKANO WM-5000 |
TAKANO(TOPCON) |
WM-5000 |
2005 |
METROLOGY |
国外
|
1622 |
TAKATORI AMR-2200G |
TAKATORI |
AMR-2200G |
- |
BACK GRIND |
国外
|
1621 |
TEL ACT8(2C2D) |
TEL |
ACT8(2C2D) |
1998 |
PHOTOLITHO |
国外
|
1620 |
TEL Alpha-8SE DIFFUSION |
TEL |
Alpha-8SE |
2005 |
DIFFUSION |
国外
|
1619 |
TEL IW-6C FURNACE_LP-CVD |
TEL |
IW-6C |
1994 |
FURNACE |
国外
|
1618 |
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
1993 |
WET |
国外
|
1617 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1999 |
PHOTOLITHO |
国外
|
1616 |
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
1992 |
PHOTOLITHO |
国外
|
1615 |
TEL MARK-VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK-VZ |
1998 |
PHOTOLITHO |
国外
|
1614 |
TEL P-12XL |
TEL |
P-12XL |
2002 |
TEST |
国外
|
1613 |
TEL P-12XL |
TEL |
P-12XL |
2002 |
TEST |
国外
|
1612 |
TEL P-12XLn |
TEL |
P-12XLn |
2006 |
TEST |
国外
|
1611 |
TEL P-8XL |
TEL |
P-8XL |
2000 |
TEST |
国外
|
1610 |
TEL P-8XL |
TEL |
P-8XL |
2004 |
TEST |
国外
|
1609 |
TEL P-8XL |
TEL |
P-8XL |
2008 |
TEST |
国外
|
1608 |
TEL SS-4 |
TEL |
SS-4 |
2001 |
WET |
国外
|
1607 |
TEL SS-4 |
TEL |
SS-4 |
2003 |
WET |
国外
|
1606 |
TEL TACTRAS |
TEL |
TACTRAS |
2013 |
ETCH |
国外
|
1605 |
TEL TE5000ATC |
TEL |
TE5000ATC |
1992 |
ETCH |
国外
|
1604 |
TEL TE8500(S) |
TEL |
TE8500(S) |
2000 |
ETCH |
国外
|
1603 |
TEL TE8500(S)ATC |
TEL |
TE8500(S)ATC |
1992 |
ETCH |
国外
|
1602 |
TEL TE8500(S)ATC |
TEL |
TE8500(S)ATC |
1993 |
ETCH |
国外
|
1601 |
TEL TE8500(S)ATC |
TEL |
TE8500(S)ATC |
1995 |
ETCH |
国外
|
1600 |
TEL TE8500ATC |
TEL |
TE8500ATC |
1995 |
ETCH |
国外
|
1599 |
TEL Telius SCCM |
TEL |
Telius SCCM |
2000 |
ETCH |
国外
|
1598 |
TEL Unity Me 85D |
TEL |
Unity Me 85D |
2003 |
ETCH |
国外
|
1597 |
TEL UnityII-855II |
TEL |
UnityII-855II |
1996 |
ETCH |
国外
|
1596 |
TEL UnityII-855II |
TEL |
UnityII-855II |
1996 |
ETCH |
国外
|
1595 |
TEL UnityIIe-655II |
TEL |
UnityIIe-655II |
2002 |
ETCH |
国外
|
1594 |
TEL UnityII-855II |
TEL |
UnityIIe-855II |
1997 |
ETCH |
国外
|
1593 |
TEL UnityII-855II |
TEL |
UnityIIe-855II |
2002 |
ETCH |
国外
|
1592 |
TEL UnityIIe-855SS |
TEL |
UnityIIe-855SS |
2000 |
ETCH |
国外
|
1591 |
TEL UnityIIe-855SS |
TEL |
UnityIIe-855SS |
2006 |
ETCH |
国外
|
1590 |
ASHER |
TOK |
TCA-3822 |
1995 |
ASHER |
国外
|
1589 |
ASHER |
TOK |
TCA-3822 |
1995 |
ASHER |
国外
|
1588 |
OXIDE ETCHER |
TOK |
TCE-3822 |
- |
ETCH |
国外
|
1587 |
OXIDE ETCHER |
TOK |
TCE-3822 |
- |
ETCH |
国外
|
1586 |
AUTOMATIC VISUAL INSPECTION |
TORAY |
INSPECTRA-3000TR200M |
2015 |
METROLOGY |
国外
|
1585 |
ULTRATECH Saturn-SS3 |
ULTRATECH |
Saturn-SS3 |
2001 |
PHOTOLITHO |
国外
|
1584 |
ULVAC EI-7L蒸发台 |
ULVAC爱发科 |
EI-7L |
- |
PVD |
国外
|
1583 |
USHIO PE-250R2HK |
USHIO |
PE-250R2HK |
- |
PHOTOLITHO |
国外
|
1582 |
USHIO PE-250T2HM |
USHIO |
PE-250T2HM |
- |
PHOTOLITHO |
国外
|
1581 |
USHIO UMA-1002-HC933HD激光扫描仪 |
USHIO |
UMA-1002-HC933HD |
1998 |
PHOTOLITHO |
国外
|
1580 |
LDI设备 3波长(wavelength)/6HEAD |
SCREEN |
- |
2019 |
Photo Solder |
国外
|
1579 |
LDI设备 405波长 (wavelength) |
ADTECH |
- |
2016 |
Resist |
国外
|
1578 |
LDI设备 3波长(wavelength)/5HEAD |
SCREEN |
- |
2018 |
DF |
国外
|
1577 |
LDI设备 多波长(multi wavelength) |
overtech |
- |
2014 |
PSR/DF |
国外
|
1576 |
真空层圧设备 |
LEETEK |
- |
2014 |
DF |
国外
|
1575 |
自动露光机/平行光 |
Hakuto |
- |
2009 |
DF |
国外
|
1574 |
自动露光机/平行光 |
Hakuto |
- |
2007 |
DF |
国外
|
1573 |
自动露光机/平行光 |
ORC |
- |
2004 |
DF |
国外
|
1572 |
HITACHI DF层压设备 |
HITACHI |
DF层压设备 |
- |
PSR/DF |
国外
|
1571 |
PSR全自动印刷机 |
SERIA |
- |
2005 |
DF |
国外
|
1570 |
PSR悬挂干燥机 |
BMI |
- |
2005 |
PSR |
国外
|
1569 |
PSR半自动4轴机 |
SERIA |
- |
2016 |
PSR |
国外
|
1568 |
PSR半自动4轴机 |
SDK' |
- |
2018 |
PSR MARKING |
国外
|
1567 |
PSR半自动4轴机 |
SDK' |
- |
2017 |
PSR MARKING |
国外
|
1566 |
PSR半自动4轴机 |
minongmt |
- |
2010 |
PSR MARKING |
国外
|
1565 |
PSR隧道式预干燥机 |
SMUV |
- |
2020 |
PSR MARKING |
国外
|
1564 |
PSR预处理喷射线 |
SIE |
- |
2007 |
PSR |
国外
|
1563 |
PSR现像机 |
Taesung |
- |
2009 |
PSR |
国外
|
1562 |
PSR最终干燥机 |
Taeyang |
- |
1999 |
PSR |
国外
|
1561 |
PSR UV干燥机 |
SMUV |
- |
2020 |
PSR |
国外
|
1560 |
箱式干燥机 |
SMUV |
- |
2020 |
PSR |
国外
|
1559 |
自动搬送Conveyor |
Hansong |
- |
2018 |
PSR |
国外
|
1558 |
DES(Development Etching Strip )Line |
- |
- |
- |
AUTOMATION |
国外
|
1557 |
2 Chamber)/Flexible or Rigid 対応 |
Camellia |
- |
2014 |
PATTEN |
国外
|
1556 |
DES(Development Etching Strip )Line |
- |
- |
- |
PATTEN |
国外
|
1555 |
2 Chamber)/Rigid 対応 |
Camellia |
- |
2007 |
PATTEN |
国外
|
1554 |
DES(Development Etching Strip )Line |
- |
- |
- |
PATTEN |
国外
|
1553 |
4 Chamber)/Flexible or Rigid 対応 |
NTP |
- |
2011 |
PATTEN |
国外
|
1552 |
DES(Development Etching Strip )Line |
- |
- |
- |
PATTEN |
国外
|
1551 |
4 Chamber)/Rigid 対応 |
SMC |
- |
2007 |
LAYER |
国外
|
1550 |
Half Etching(电镀后) |
Taesung |
- |
2011 |
LAYER |
国外
|
1549 |
氧化物(Sheet RTR兼用) |
DUC |
- |
2017 |
LAYER |
国外
|
1548 |
外形加工(切断) |
Daliang |
- |
2013 |
LAYER |
国外
|
1547 |
2 轴 X-RAY Drill Machine |
Hansong |
- |
2013 |
LAYER |
国外
|
1546 |
2 轴 X-RAY Drill Machine |
Hansong |
- |
2012 |
LAYER |
国外
|
1545 |
SUS 前处理装置 |
Taesung |
- |
2012 |
LAYER |
国外
|
1544 |
自动真空成形装置(6段) |
Fusei |
- |
1999 |
LAYER |
国外
|
1543 |
自动真空成形装置(6段) |
Fusei |
- |
2006 |
LAYER |
国外
|
1542 |
冷压液压机(6段) |
Fusei |
- |
1999 |
COATING |
国外
|
1541 |
圧力机 |
Fusei |
- |
1999 |
COATING |
国外
|
1540 |
Brown Oxide |
Keystone |
- |
2011 |
COATING |
国外
|
1539 |
2次Lay up设备 |
ESSENTEK |
- |
2005 |
COATING |
国外
|
1538 |
VF电镀装置/15,000张 |
TKC |
- |
2009 |
COATING |
国外
|
1537 |
VF电镀装置/15,000张 |
TKC |
- |
2011 |
COATING |
国外
|
1536 |
4轴前处理机 |
Taesung |
- |
2009 |
COATING |
国外
|
1535 |
2轴去毛刺设备 |
Taesung |
- |
2012 |
HARF MACHINE |
国外
|
1534 |
水平去污设备 |
Keystone |
- |
- |
HARF MACHINE |
国外
|
1533 |
Black Hole Machine |
Keystone |
- |
- |
SPS |
国外
|
1532 |
Shield Press Machine |
DINGA |
- |
2012 |
RELIABILITY |
国外
|
1531 |
Shield Press Machine |
VISION KOREA |
- |
2016 |
RELIABILITY |
国外
|
1530 |
PCB BONDING Machine |
Hansong |
- |
2003 |
RELIABILITY |
国外
|
1529 |
3次元测定器 |
MicroVu |
- |
2018 |
- |
国外
|
1528 |
2010/2009 |
- |
- |
- |
- |
国外
|
1527 |
3次元测定器 |
MicroVu |
- |
2005 |
- |
国外
|
1526 |
电镀测厚仪 |
SEIKO |
- |
2012 |
- |
国外
|
1525 |
Plasma Therm Versaline ICP-RIE #2 PSS IC |
Plasma |
Therm Versaline ICP-RIE #2 PSS |
- |
As-is |
国外
|
1524 |
AMSL XT760F KrF Scanner |
AMSL |
XT760F KrF Scanner |
- |
As-is |
国外
|
1523 |
EBARA EPO222 CMP |
EBARA |
EPO222 CMP |
- |
As-is |
国外
|
1522 |
Oxford Plasmalab System 100 RIE+PECVD |
OXFORD牛津 |
Plasmalab System 100 RIE+PECVD |
- |
As-is |
国外
|
1521 |
DNS SU3200 |
DNS |
SU3200 |
- |
As-is |
国外
|
1520 |
LAM RAINBOW 4420等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
RAINBOW 4420 |
- |
6" As-is |
国外
|
1519 |
KLA Tencor 2552缺陷数据分析处理仪 |
KLA科磊 |
2552 |
- |
As-is |
国外
|
1518 |
USHIO UX-4440 Aligner |
USHIO |
UX-4440 Aligner |
- |
As-is |
国外
|
1517 |
CHA Revolution |
CHA |
Revolution |
- |
As-is |
国外
|
1516 |
ULVAC EX W300多腔溅射设备 |
ULVAC爱发科 |
EX W300 |
- |
As-is Multi-ch |
国外
|
1515 |
ULVAC EI-7K蒸发台 |
ULVAC爱发科 |
EI-7K |
- |
As-is |
国外
|
1514 |
ULVAC EI-5K蒸发台 |
ULVAC爱发科 |
EI-5K |
- |
As-is |
国外
|
1513 |
ULVAC Chamber(5CH) |
ULVAC爱发科 |
Chamber(5CH) |
- |
12" As-is |
国外
|
1512 |
Ebara F-REX300S CMP |
Ebara |
F-REX300S CMP |
- |
12" FULL REPUB |
国外
|
1511 |
Maxis 300LA ICP |
Maxis |
300LA ICP |
- |
12" As-is |
国外
|
1510 |
Nippon Sanso |
Nippon |
Sanso |
- |
6" As-is |
国外
|
1509 |
Aixtron Crius II |
Aixtron |
Crius II |
- |
As-is |
国外
|
1508 |
DISCO DFD641划片机 |
DISCO |
DFD641 |
- |
8"Working |
国外
|
1507 |
Oxford Plasma Pro NGP1000 |
OXFORD牛津 |
Plasma Pro NGP1000 |
- |
12" As-is |
国外
|
1506 |
AMAT Centura DPS+ Poly Etch |
AMAT应用材料 |
Centura DPS+ Poly Etch |
- |
As-is |
国外
|
1505 |
AMAT Producer-GT CVD |
AMAT应用材料 |
Producer-GT CVD |
- |
As-is |
国外
|
1504 |
AMAT mirra MESA CMP |
AMAT应用材料 |
mirra MESA CMP |
- |
FULL REPUB |
国外
|
1503 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
P5000 |
- |
8" REFURB |
国外
|
1502 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
P5000 |
- |
FULL REPUB |
国外
|
1501 |
HITACHI HL7800M |
HITACHI |
HL7800M |
- |
As-is |
国外
|
1500 |
HITACHI HL8000M |
HITACHI |
HL8000M |
- |
As-is |
国外
|
1499 |
HITACHI S-4800扫描电子显微镜 |
HITACHI |
S4800 |
- |
working |
国外
|
1498 |
HITACHI FESEM S4700 II扫描电子显微镜 |
HITACHI |
FESEM S4700 II |
- |
FULL REPUB |
国外
|
1497 |
HITACHI FESEM S4700 II扫描电子显微镜 |
HITACHI |
FESEM S4700 II |
- |
Working |
国外
|
1496 |
HITACHI S-9260A |
HITACHI |
S-9260A |
- |
8" FULL REPUB C |
国外
|
1495 |
TEL P-12XL Probe |
TEL |
P-12XL Probe |
- |
12" As-is |
国外
|
1494 |
TEL MARK-VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK-VZ |
- |
As-is 2C2D |
国外
|
1493 |
TEL ACT8 2C4D, Double Block |
TEL |
ACT8 2C4D, Double Block |
- |
working |
国外
|
1492 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
working track ( |
国外
|
1491 |
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
200 As-is Singl |
国外
|
1490 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
200 As-is Singl |
国外
|
1489 |
TEL ACT12 Single Block |
TEL |
ACT12 Single Block |
- |
300 As-is |
国外
|
1488 |
TEL ACT8 Single Block |
TEL |
ACT8 Single Block |
- |
200 As-is |
国外
|
1487 |
CANON FPA3000i4 |
CANON |
FPA3000i4 |
- |
Working |
国外
|
1486 |
NIKON NSR S205C光刻机 |
NIKON |
NSR-S205C |
- |
As-is |
国外
|
1485 |
NIKON NSR SF200光刻机 |
NIKON |
NSR-SF200 |
2003 |
Working |
国外
|
1484 |
NIKON NSR 207D光刻机 |
NIKON |
NSR-207D |
- |
working |
国外
|
1483 |
NIKON NSR 2205i12D光刻机 |
NIKON |
NSR-2205i12D |
- |
Initial Conditi |
国外
|
1482 |
NIKON NSR 2005i9C步进式光刻机 |
NIKON |
NSR-2005i9C |
- |
Working |
国外
|
1481 |
NIKON NSR 2205 EX12B光刻机 |
NIKON |
NSR-2205EX12B |
- |
As-is |
国外
|
1480 |
NIKON NSR 1505G7E光刻机 |
NIKON |
NSR-1505G7E |
- |
6" Working |
国外
|
1479 |
NIKON NSR 2205i12D光刻机 |
NIKON |
NSR-2205i12D |
- |
6"reticle(SMIF) |
国外
|
1478 |
NIKON NSR 2005i9C步进式光刻机 |
NIKON |
NSR-2005i9C |
- |
R), Fab out (Jun. 2019)">Uniformity(2.35 |
国外
|
1477 |
NIKON NSR 2205 EX12B光刻机 |
NIKON |
NSR-2205EX12B |
- |
Available Dec, |
国外
|
1476 |
NIKON NSR 1505G7E光刻机 |
NIKON |
NSR-1505G7E |
- |
w/cymer laser, |
国外
|
1475 |
Advantest T5375 ATE |
Advantest |
T5375 |
- |
single head wit |
国外
|
1474 |
KARL SUSS MA200光刻机 |
KARL SUSS |
MA200 |
1989 |
8" Holder , 2x |
国外
|
1473 |
AMAT Centura DPS2 Metal |
AMAT应用材料 |
Centura DPS2 Metal |
2005 |
EFEM(NT, Yaskaw |
国外
|
1472 |
AMAT Centura Axiom Chamber |
AMAT应用材料 |
Centura Axiom Chamber |
2006 |
Axiom Only (w/V |
国外
|
1471 |
Mattson Helios RTP |
Mattson |
Helios |
2009 |
3x TDK TAS300 L |
国外
|
1470 |
Mattson Helios RTP |
Mattson |
Helios |
2004 |
1. Chamber Qty. |
国外
|
1469 |
Mattson Helios RTP |
Mattson |
Helios |
2004 |
3x TDK TAS300 L |
国外
|
1468 |
Mattson Helios RTP |
Mattson |
Helios |
2005 |
3x TDK TAS300 L |
国外
|
1467 |
Agilent 4073B ATE |
Agilent |
4073B |
2005 |
48Pin / SMU:HRS |
国外
|
1466 |
Agilent 4073A ATE |
Agilent |
4073A |
2001 |
32pin(of 32pins |
国外
|
1465 |
Agilent 4073B ATE |
Agilent |
4073B |
2011 |
48pin, SMU7[MPS |
国外
|
1464 |
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
P5000 |
1988 |
CVD Mark1, 3x D |
国外
|
1463 |
TEL LITHIUS Pro-i |
TEL |
LITHIUS Pro-i |
2007 |
9COT 3DEV with |
国外
|
1462 |
TEL LITHIUS |
TEL |
LITHIUS |
2007 |
5C5D, Inlined t |
国外
|
1461 |
AMAT Reflexion FA |
AMAT应用材料 |
Reflexion FA |
2005 |
CMP |
国外
|
1460 |
KARL SUSS CBC200 |
KARL SUSS |
CBC200 |
2013 |
Cluster Frame, |
国外
|
1459 |
TERADYNE MAGNUM2X 2x GVLC |
TERADYNE |
MAGNUM2X 2x GVLC |
- |
Frame Only. No |
国外
|
1458 |
TERADYNE MAGNUM2X SSV |
TERADYNE |
MAGNUM2X SSV |
- |
[Missing indica |
国外
|
1457 |
KARL SUSS CB200M |
KARL SUSS |
CB200M |
2012 |
Process chamber |
国外
|
1456 |
AMAT Vantage 5 |
AMAT应用材料 |
Vantage 5 |
2012 |
RTP |
国外
|
1455 |
KLA Viper 2435 |
KLA科磊 |
Viper 2435 |
2006 |
- |
国外
|
1454 |
KLA Viper 2438 |
KLA科磊 |
Viper 2438 |
2008 |
- |
国外
|
1453 |
TERADYNE IP750测试系统 |
TERADYNE |
IP750 |
2000 |
512ch head(1), |
国外
|
1452 |
TERADYNE IP750测试系统 |
TERADYNE |
IP750 |
2000 |
512ch head(1), |
国外
|
1451 |
TERADYNE IP750测试系统 |
TERADYNE |
IP750 |
2000 |
512ch head(1), |
国外
|
1450 |
TERADYNE IP750EP测试系统 |
TERADYNE |
IP750EP |
2002 |
512ch head(1), |
国外
|
1449 |
TERADYNE IP750测试系统 |
TERADYNE |
IP750 |
2000 |
Power condition |
国外
|
1448 |
TERADYNE UltraFLEX |
TERADYNE |
UltraFLEX |
2011 |
Z800(W/S)36 slo |
国外
|
1447 |
TERADYNE J750EX测试系统 |
TERADYNE |
J750EX |
2015 |
1024ch size Lar |
国外
|
1446 |
TERADYNE IP750EX测试系统 |
TERADYNE |
IP750EX |
2001 |
HEAD(Modified f |
国外
|
1445 |
TERADYNE J750测试系统 |
TERADYNE |
J750 |
2004 |
韩国 Main, Head, |
国外
|
1444 |
SMT |
Famecs |
FMBL-200AND-SHE |
2013 |
- |
国外
|
1443 |
TERADYNE IP750测试系统 |
TERADYNE |
IP750 |
2000 |
512ch head(1), |
国外
|
1442 |
TERADYNE IP750S测试系统 |
TERADYNE |
IP750S |
- |
512ch head(1), |
国外
|
1441 |
PKG |
Musashi |
AWATRON2 AW-MV310 |
2013 |
Vacuum Pump : 2 |
国外
|
1440 |
NIKON N-SIS超分辨率显微镜 |
NIKON |
N-SIS 5 |
- |
- |
国外
|
1439 |
NIKON N-SIS超分辨率显微镜 |
NIKON |
N-SIS 5 |
- |
- |
国外
|
1438 |
NIKON N-SIS超分辨率显微镜 |
NIKON |
N-SIS 5 |
- |
- |
国外
|
1437 |
NIKON N-SIS超分辨率显微镜 |
NIKON |
N-SIS 5 |
- |
- |
国外
|
1436 |
NIKON N-SIS超分辨率显微镜 |
NIKON |
N-SIS 5 |
- |
- |
国外
|
1435 |
TEL Trias CVD |
TEL |
Trias |
2004 |
4 x CVD TiN, 3 |
国外
|
1434 |
TEL Trias CVD |
TEL |
Trias |
2011 |
Trias E+, UV RF |
国外
|
1433 |
TEL Trias CVD |
TEL |
Trias |
2006 |
Ti Ch x2, TiN C |
国外
|
1432 |
TEL Trias CVD |
TEL |
Trias |
2012 |
3CH |
国外
|
1431 |
TEL Trias CVD |
TEL |
Trias |
2013 |
EXII ALD TiN 1C |
国外
|
1430 |
TEL Trias SPA CVD |
TEL |
Trias SPA |
2010 |
LM+TM+AC Rack, |
国外
|
1429 |
ACCRETECH UF3000探针台 |
ACCRETECH东京精密 |
UF3000 |
2007 |
Right Single Lo |
国外
|
1428 |
AXCELIS RapidCure 320FC Track |
AXCELIS |
RapidCure 320FC |
2007 |
- |
国外
|
1427 |
NITTO HR8500II撕膜机 |
NITTO |
HR8500II |
2002 |
5,6,8" Universa |
国外
|
1426 |
AMAT Centura DPS2 Metal |
AMAT应用材料 |
Centura DPS2 Metal |
2005 |
EFEM(Server, Ya |
国外
|
1425 |
AMAT Producer GT CVD |
AMAT应用材料 |
Producer GT |
2011 |
3 Twin(HARP USG |
国外
|
1424 |
AMAT Producer GT Chamber CVD |
AMAT应用材料 |
Producer GT Chamber |
2010 |
1 Twin CH(ACL) |
国外
|
1423 |
KLA Spectra FX200薄膜量测 |
KLA科磊 |
FX200 |
2006 |
[Power-on] 2por |
国外
|
1422 |
Micromanipulator 9000-VIT |
Micromanipulator |
9000-VIT |
2005 |
- |
国外
|
1421 |
TEL TSP 305 SCCM TE Etch |
TEL |
TSP 305 SCCM TE |
2007 |
3x TE configure |
国外
|
1420 |
Component |
Blue M |
DCC-206-EV-ST350 |
1999 |
- |
国外
|
1419 |
Component |
EBARA |
EST 300 |
- |
- |
国外
|
1418 |
Component |
EBARA |
EST200WN |
- |
- |
国外
|
1417 |
Metrology |
VLSI Standard |
PDS-100 |
2000 |
Particle Counte |
国外
|
1416 |
Advantest 83000 ATE |
Advantest |
83000 |
2000 |
- |
国外
|
1415 |
Advantest 83000 ATE |
Advantest |
83000 |
- |
- |
国外
|
1414 |
Advantest 83000 ATE |
Advantest |
83000 |
- |
- |
国外
|
1413 |
Metrology |
VEECO |
V220SI |
- |
- |
国外
|
1412 |
Component |
ITS |
Single Mix Tank |
- |
- |
国外
|
1411 |
Electroglas EG2001X ATE |
Electroglas |
EG2001X |
- |
- |
国外
|
1410 |
Component |
Blue M |
RG-3010F-2 |
- |
System S/N: R2- |
国外
|
1409 |
Steag ElectroDep 2000 Etch |
Steag |
ElectroDep 2000 |
2000 |
- |
国外
|
1408 |
AG Associates Steag Etch |
AG Associates |
Steag |
- |
- |
国外
|
1407 |
Component |
Oryx |
M65X |
- |
- |
国外
|
1406 |
Component |
Oryx |
M65X |
- |
- |
国外
|
1405 |
Electroglas EG4090u ATE |
Electroglas |
EG4090u |
1999 |
Tool was functi |
国外
|
1404 |
Electroglas EG4090u ATE |
Electroglas |
EG4090u |
1999 |
Tool was functi |
国外
|
1403 |
Electroglas EG4090u ATE |
Electroglas |
EG4090u |
1999 |
Tool was functi |
国外
|
1402 |
Electroglas EG4090u ATE |
Electroglas |
EG4090u |
2004 |
Tool was functi |
国外
|
1401 |
Metrology |
PMS |
Lasair 110 |
2013 |
- |
国外
|
1400 |
WET |
GTX |
Wet Bench |
- |
- |
国外
|
1399 |
Kinetic Systems 9101-21-21 |
Kinetic Systems |
9101-21-21 |
1994 |
- |
国外
|
1398 |
Component |
Akrion |
UP V2 MP.2000 |
- |
Bagged & Skidde |
国外
|
1397 |
Component |
Thermo Fisher Scientific |
FED720 |
- |
- |
国外
|
1396 |
Component |
Feedmatic |
Vacuum Sealer |
1997 |
- |
国外
|
1395 |
Component |
Akrion |
UP V2 MP.2000 |
1999 |
Bagged & Skidde |
国外
|
1394 |
KLA CRS1010 |
KLA科磊 |
CRS1010 |
1998 |
Microscope |
国外
|
1393 |
WET |
Autoclean |
ISG-2000 |
- |
- |
国外
|
1392 |
Component |
Akrion |
UP V2 MP.2000 |
2000 |
- |
国外
|
1391 |
Component |
Akrion |
UP V2 MP.2000 |
2000 |
Bagged & Skidde |
国外
|
1390 |
Component |
Akrion |
UP V2 MP.2000 |
- |
Main system 1, |
国外
|
1389 |
Component |
Sonicor Instrument |
TS-2404/402424H |
- |
- |
国外
|
1388 |
Unknown Parts Clean Box-Exhaust |
Unknown |
Parts Clean Box-Exhausted |
1995 |
for Parts Clean |
国外
|
1387 |
LAM Synergy CMP |
LAM泛林 |
Synergy |
1997 |
- |
国外
|
1386 |
WET |
Akrion |
MP-2000 |
2000 |
Unhooked, disma |
国外
|
1385 |
HITACHI AS5000 |
HITACHI |
AS5000 |
1997 |
Metrology / SEM |
国外
|
1384 |
Component |
Thermo Fisher Scientific |
FED720 |
- |
- |
国外
|
1383 |
LASERTEC PEGSIS P100 |
LASERTEC |
PEGSIS P100 |
2011 |
- |
国外
|
1382 |
Component |
Thermo Fisher Scientific |
FD400 |
1995 |
- |
国外
|
1381 |
Component |
Jackson Automation |
EXHAUST BOX |
2000 |
Implant / Clean |
国外
|
1380 |
Component |
Jackson Automation |
Exhaust Cabinet |
- |
- |
国外
|
1379 |
Component |
Blue M |
DCC206CY |
1995 |
- |
国外
|
1378 |
Component |
Jackson Automation |
Exhaust Cabinet |
- |
- |
国外
|
1377 |
Metrology |
JEOL |
JWS-7515 |
1999 |
- |
国外
|
1376 |
WET |
Pan Abrasives |
KS9090WB/SS4 |
- |
- |
国外
|
1375 |
AG Associates Extraction, Amine |
AG Associates |
Extraction, Amine |
2000 |
- |
国外
|
1374 |
Component |
Thermo Fisher Scientific |
FD400 |
- |
- |
国外
|
页次:
5
/ 8页 每页:500 产品数:3873
9[1][2][3][4][5][6][7][8]: 总共有8页
|
|
龙玺精密-二手半导体设备买卖+翻新+非标定制 龙先生18868521984(微) |
注:设备状态不定期更新,是否已售出请咨询。 |
|