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VGF单晶炉 双腔甩干机 ALD原子层沉积设备 高真空多靶磁控溅射镀膜机
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半导体设备
 
名称:立式单腔双腔甩干机
类别:清洗设备
制造商:-
设备型号:-
制造日期:-
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详细介绍
GASS立式甩干机是高洁净度冲洗甩干设备, 具有高洁净冲洗,高速甩干,快速烘干,效率高的特点,不同晶圆尺寸,可通过快速更换转子来实现。是湿法清洗工艺的主要设备,设备本身有单腔室和双腔室2种结构,体型小运行平稳。其主要用于2-8英寸半导体晶圆、掩膜板、各种基片等材料的高洁净度冲洗及干燥工艺。

GASS立式甩干机设备特点
· 可以快速拆卸更换转子;
· 采用直驱式高性能无刷电机;
· 设备正常稳定工作时间≥95%,碎片率低于千分之一;
· 颗粒度增加值 <10 (0.3 micron),甩干后表面无水渍、无污染物;
· 整机采用进口PFA/PVDF/PTFE管件/喷嘴;
· 气动控制部件采用进口SMC压力开关/电磁阀;
· 电源主空气开关带漏电保护;
· 当设备出现异常时,按急停按钮可停机;
· 动力条件监测及报警;
· 加热系统超温保护;
· 门禁/摆正监测报警。

 

技术参数

设备结构 单腔室
自动化程度 全自动
清洗对象 2-8寸晶片
清洗能力 单腔室2-8寸/1篮,25片/蓝          双腔室2-8寸/2篮,25片/蓝
配套花篮 对应转子同尺寸Entegris(25pcs)花篮(可订制)
配套转子 对应标准尺寸Entegris(25pcs)花篮(可订制)
马达额定转速 300-2800转/min,马达最高转速:3000转/min
电气控制方式 人机界面+ PLC可编程控制器(最多可存储10套程序,每套程序8个步骤)可显示并记录最近10条报警内容
设备外形尺寸 PS-1600:单腔室-长X宽X高(单位mm)= 720X450X1510        双腔室-长X宽X高(单位mm)= 820X450X1810
PS-1800:单腔室-长X宽X高(单位mm)= 760X520X1630        双腔室-长X宽X高(单位mm)= 860X520X1830

 

 

修面速度 0-250mm/min
外形尺寸 1050mm x 1600mm x 1700mm
设备重量 1800kg