| 龙玺精密-为您提供ASML AT1100光刻机设备买卖+翻新全套解决方案
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| 编 号：4040 (发布时间:2024.7.13) |
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| 名 称：ASML AT1100光刻机 |
| 厂 商：ASML |
| 型 号：AT1100 |
| 年 份：2002 |
| 状 态：国内 |
AT1100设备完整不缺件,已翻新在台湾;
AT:1100采用193nmArF曝光光源，针对于300mm晶圆处理的双级光刻平台。
AT:1100具有12"扫描仪。
AT:1100是一个193nm波长系统，具有业界最高的数值孔径ArF透镜(NA=0.75)。建立在ASML于2000年7月推出的成功的300mm ;TWINSCAN双级平台之上。
AT:1100以20mJ/cm2的剂量实现每小时93个晶圆的吞吐量。通过分离对齐和曝光操作，可以在不影响吞吐量的情况下对整个300mm晶圆进行更广泛和准确的对齐和晶圆表面高度映射.这种计量精度的提高对于在全吞吐量下提供100nm关键尺寸控制和晶圆上小于20nm的覆盖层至关重要。
AT:1100引入了新的4kHz ;ArF激光技术，这有助于其领先的生产力优势。
AT:1100引入了新的4kHz ArF激光技术，这有助于其领先的生产力优势。
AT:1100专为与ASML的TWINSCAN产品系列（包括248nm深紫外系统AT:750和i-line系统AT:400）无缝混搭操 |
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