VTM单晶炉是依据我公司自主研发的VTM工艺方法所设计的新型单晶工艺设备，设备由加热系统、运动系统支撑机构、电控系统四部分组成，适用碲锌镉、碲化镉、锑化镓等多种化合物半导材料的单晶生长。
VTM单晶炉设备特点：
晶体生长界面引入磁力控制，稳定晶体生长方向，提高了单晶成品率；
整机的机械运动及加热系统采用PC控制，菜单数据可输入，历史数据可查询，具有声、光报警，生产重复性高；
加热系统分主加热装置和辅助加热装置，主加热控制整体温度、辅助加热可移动，实现局部加热的高精度，加强了温场的可控性；
运动系统采用一键式控制既满足装炉时的快速升降，又可以精确控制晶体生长时炉体的缓慢行程速度，大大提高生产效率；
支撑机构采用分体式设计，保暲稳定性同时有效阻隔了震动，提高单晶生长的质量及成品率；
采用刚性传动机构，传动效率高,稳定性强。
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