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半导体设备
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TEL
LAM
KLA
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ID
设备名称
制造商
型号
年份
详细配置
状 态
4143
ASML PAS 5500/850D光刻机
ASML
PAS-5500/850D
2005
设备完整不缺件,2024.01月停产,目前仍
国外
4125
ASML AT-850B光刻机
ASML
AT-850B
2002
12",2024/5台湾拆机,无缺件,有HD
国内
4040
ASML AT1100光刻机
ASML
AT1100
2002
设备完整不缺件,已翻新在台湾;
国内
3989
ASML XT1250D光刻机
ASML
XT1250D
-
设备完整不缺件;
国外
3848
ASML AT850C光刻机
ASML
AT850C
2004
已拆卸在洁净室中,晶圆300mm,无HDD上
国外
3783
ASML PAS 5500/1150C光刻机
ASML
5500/1150C
2003.06
-
国外
2803
ASML PASS 5500/100D光刻机
ASML
PASS 5500/100D
1996
6in(有3台)
国外
2763
ASML XT1250D光刻机
ASML
XT1250D
-
无尘车间正常运转中
国外
2609
ASML TWINSCAN 1100光刻机
ASML
TWINSCAN 1100
2002
新型320毫米/秒双级
最高的光学利用
国内
2296
ASML AT1150C光刻机
ASML
AT-1150C
2004
Stepper 12"
国内
1242
ASML XT1250B光刻机
ASML
XT1250B
2005
-
国外
1186
ASML XT1700Gi光刻机
ASML
XT1700Gi
2006
-
国外
1122
ASML XT1700FI光刻机
ASML
XT1700FI
2009
-
国外
1100
ASML XT1250D光刻机
ASML
XT1250D
2005
-
国外
496
ASML XT1250D光刻机
ASML
XT1250D
2004
1) Wafer 12inch
2) Re
国外
495
ASML XT1700FI光刻机
ASML
XT1700FI
2012
1700iP, uniformity(1.0
国外
页次: 1 / 1页 每页:500 设备数:16
9
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1
]
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总共有1页
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