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LAM TCP9600SE等离子体刻蚀机
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(设备目前在
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,年份:2005,6"设备完整不缺件,150mm;)18868521984龙先生
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LAM RAINBOW 4520i干法刻蚀机
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(设备目前在
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,年份:2000,设备完整不缺件,在美国仓库中;)18868521984龙先生
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LAM RESEARCH 9400等离子刻蚀机
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(设备目前在
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,年份:2000,设备完整不缺件,在美国仓库中;)18868521984龙先生
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LAM TE490干法刻蚀机
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(设备目前在
国内
,年份:-,6")18868521984龙先生
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LAM TE490干法刻蚀机
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,年份:-,6")18868521984龙先生
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LAM 2300 Exelan Flex蚀刻机
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,年份:-,4室Ath-1600涡轮增压+交流箱;)18868521984龙先生
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LAM C2 Triple SPEED气相沉积
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,年份:-,设备完整不缺件;)18868521984龙先生
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LAM 2300 Exelan Flex45 ICP蚀刻机
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,年份:-,设备型号:2300 Exelan Fle)18868521984龙先生
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LAM RAINBOW 4520XL干法刻蚀机
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,年份:-,-)18868521984龙先生
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LAM RAINBOW 4520XL干法刻蚀机
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,年份:2000,热机运行中,但风扇需要更换;)18868521984龙先生
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LAM 490B干法刻蚀机
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,年份:-,6"备件机;)18868521984龙先生
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LAM 490B干法刻蚀机
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,年份:-,6"备件机;)18868521984龙先生
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LAM RAINBOW 4420等离子刻蚀机
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,年份:-,6" As-is)18868521984龙先生
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LAM RESEARCH 9400 SE等离子刻蚀机
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,年份:1997,整机完整不缺件)18868521984龙先生
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LAM Chambers for Altus原子层沉积设备
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,年份:-,12")18868521984龙先生
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LAM RESEARCH EOS湿式晶圆清洗设备
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,年份:-,-)18868521984龙先生
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LAM ONE-W PECVD等离子化学气相沉积
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,年份:1995,PECVD;)18868521984龙先生
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LAM TWO PLASMA CVD等离子化学气相沉积
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,年份:2000,CVD)18868521984龙先生
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LAM TWO Speed PLASMA CVD薄膜沉积设备
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,年份:2000,CVD)18868521984龙先生
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LAM RST201刻蚀机
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,年份:1996,WET)18868521984龙先生
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LAM RST201刻蚀机
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,年份:1997,WET)18868521984龙先生
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LAM SEZ203晶圆旋转刻蚀机
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,年份:2005,WET)18868521984龙先生
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LAM RAINBOW 4420等离子刻蚀机
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,年份:-,6" As-is)18868521984龙先生
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LAM Synergy CMP薄膜沉积设备
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,年份:1997,-)18868521984龙先生
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LAM Vector Express CVD化学气相沉积设备
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,年份:2011,CVD34x, underutilize)18868521984龙先生
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LAM Vector Express CVD化学气相沉积设备
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,年份:2011,-)18868521984龙先生
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LAM Vector CVD化学气相沉积设备
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,年份:2005,Vector RPC)18868521984龙先生
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LAM Vector Express CVD化学气相沉积设备
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,年份:2004,PESINn PETEOS, Loadp)18868521984龙先生
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LAM Strip45 Chamber Etch刻蚀机
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,年份:2010,Strip45 chamber only)18868521984龙先生
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LAM Strip45 Chamber Etch刻蚀机
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,年份:2010,Strip45 chamber only)18868521984龙先生
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,年份:2010,Strip45 chamber only)18868521984龙先生
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LAM Vector SOLA xT CVD化学气相沉积设备
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,年份:2011,UV Cure)18868521984龙先生
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,年份:2004,-)18868521984龙先生
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注:设备状态不定期更新,是否已售出请咨询。