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Oxford Plasmalab System 100 RIE+PECVD
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DNS SU3200
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LAM RAINBOW 4420等离子刻蚀机
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ULVAC EX W300多腔溅射设备
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ULVAC EI-7K蒸发台
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ULVAC EI-5K蒸发台
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ULVAC Chamber(5CH)
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EBARA F-REX300S CMP
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Maxis 300LA ICP
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Nippon Sanso
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Aixtron Crius II MOCVD设备
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DISCO DFD641划片机
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Oxford Plasma Pro NGP1000
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AMAT Centura DPS+ Poly Etch
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AMAT Producer-GT CVD
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AMAT mirra MESA CMP
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AMAT P5000刻蚀机
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HITACHI HL7800M
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HITACHI HL8000M
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HITACHI S-4800扫描电子显微镜
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HITACHI FESEM S4700 II扫描电子显微镜
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TEL P-12XL Probe
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CANON FPA-3000i4步进式光刻机
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