CK500高真空多靶磁控溅射镀膜机主要由镀膜腔室(500xH430mm)，永磁圆形平面靶，真空系统，旋转加热基片台，气路系统，电气控制及报警保护系统等组成。
CK500高真空多靶磁控溅射镀膜机主要由真空专用不锈钢腔室、四只3英寸圆形平面磁控靶，直流、射频溅射电源各一台。机械泵+分子泵高真空系统、旋转、加热基片台(室温至300±1℃可调可控)、机架、气路、水路、逻辑按钮控制及安全保护等组成。该设备选配电源可具备四靶共溅射功能，实现一机多用，可开发纳米级单层或多层的导电膜、金属膜、半导体膜、绝缘膜等。
整机结构紧凑、占地小、操作方便、抽真空速度快。
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