| 图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
 |
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
1994/1997 |
8"设备完整不缺件,有3台现货(年份1994,1997年); |
国外
|
|
TEL P-12XLn+探针台 |
TEL |
P-12XLn+ |
2007 |
设备完整不缺件,有2台现货； |
国外
|
|
TEL ALPHA-303i LPCVD |
TEL |
ALPHA-303i |
2006 |
12"设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
|
|
TEL TELINDY I-RAD扩散炉 |
TEL |
TELINDY I-RAD |
2008 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UNITY EP Parts蚀刻机 |
TEL |
UNITY EP Parts |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UNITY EP蚀刻机 |
TEL |
UNITY EP |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Trias CVD化学气相沉积设备 |
TEL |
TRIAS |
2004 |
12"设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL MARK VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK VZ |
- |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL LITHIUS涂胶显影机 |
TEL |
LITHIUS |
2006 |
12"设备完整不缺件,有34台现货(年份2005年8台,2006年 |
国外
|
|
TEL ACT8涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
- |
6"设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UNITY2e-855DD干式蚀刻机 |
TEL |
UNITY2e-855DD |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Telius SP-Vesta干式蚀刻机 |
TEL |
Telius SP-Vesta |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UW8000湿法处理设备 |
TEL |
UW8000 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UW8000湿法处理设备 |
TEL |
UW8000 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UW300Z湿法处理设备 |
TEL |
UW300Z |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL ACT8涂胶显影机(2C2D) |
TEL |
ACT8 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL PR200Z旋涂仪 |
TEL |
PR200Z |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE-8500M蚀刻机 |
TEL |
TE-8500M |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
200mm设备完整不缺件,有多台现货; |
国外
|
|
TEL UF200探针台 |
TEL |
UF200 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL A-PM-90A探针台 |
TEL |
A-PM-90A |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL P-12Xln+探针台 |
TEL |
P-12Xln+ |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL P-12XLn探针台 |
TEL |
P-12XLn |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL P-12XL探针台 |
TEL |
P-12XL |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL P-12XL探针台 |
TEL |
P-12XL |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL 20S PROBER探针台 |
TEL |
20S PROBER |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL 80S探针台 |
TEL |
80S |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Trias Ti/TiN化学气相沉积设备 |
TEL |
Trias Ti/TiN |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL FORMULA立式扩散炉 |
TEL |
FORMULA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL FORMULA立式扩散炉 |
TEL |
FORMULA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL ALPHA-85Z立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA-85Z |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL ALPHA-801D立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA-801D |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL ALPHA-85Z立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA-85Z |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Indy-PE_6L2B立式扩散炉 |
TEL |
Indy-PE_6L2B |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL VESTA-NV3蚀刻机 |
TEL |
VESTA-NV3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL VESTA-NV3蚀刻机 |
TEL |
VESTA-NV3 |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE-8500蚀刻机 |
TEL |
TE-8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UNITY PE蚀刻机 |
TEL |
UNITY PE |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Telius DRM T-3055DD蚀刻机 |
TEL |
Telius DRM T-3055DD |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TEL TE-8500PEEATC蚀刻机 |
TEL |
TE-8500PEEATC |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UNITY IIe-855PP DP蚀刻机 |
TEL |
UNITY IIe-855PP DP? |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UNITY IIe-855II IEM蚀刻机 |
TEL |
UNITY IIe-855II IEM? |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TeliusSP-3055SS蚀刻机 |
TEL |
TeliusSP-3055SS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE5000ATC涂胶显影机 |
TEL |
TE5000ATC |
- |
150mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Unity2e-855II干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855II |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Unity2e-855II干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855II |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Unity2e-855II干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855II |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Unity2e-855SS 干法刻蚀机 |
TEL |
Unity2e-855SS |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Tactras NCCP SCCM干式蚀刻机 |
TEL |
Tactras NCCP SCCM |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL VIGUS干式蚀刻机 |
TEL |
VIGUS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Unity2e-855DPA干式蚀刻机 |
TEL |
Unity2e-855DPA |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Unity2e-85TPATC干式蚀刻机 |
TEL |
Unity2e-85TPATC |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE8500干式蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL UNITY2e-855DD干式蚀刻机 |
TEL |
UNITY2e-855DD |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL Trias CVD化学气相沉积设备 |
TEL |
TRIAS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL ACT12涂胶显影机 |
TEL |
ACT12 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL CERTAS刻蚀机 |
TEL |
CERTAS |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL FORMULA去胶机 |
TEL |
FORMULA |
- |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
|
TEL TE8500ATC蚀刻机 |
TEL |
TE8500ATC |
- |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
 |
TEL ALPHA-808SC LPCVD化学气相沉积 |
TEL |
ALPHA-808SC |
1994 |
在线热机,设备完整不缺件; |
国外
|
 |
TEL TE8500蚀刻机 |
TEL |
TE-8500 |
1995 |
设备完整不缺件,单腔,可以刻蚀SiO2和SiN,150mm已调试好 |
国内
|
 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
 |
TEL ALPHA 8S高温扩散炉 |
TEL |
ALPHA-8S |
1998 |
设备完整不缺件,有4台现货在美国; |
国外
|
|
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
6/8"设备完整不缺件; |
国内
|
 |
TEL TE8500刻蚀机 |
TEL |
TE-8500 |
- |
设备完整不缺件,在韩国; |
国外
|
 |
TEL ACT8涂胶显影机(2C2D) |
TEL |
ACT8 |
2001 |
设备完整不缺件,有3台现货在韩国; |
国外
|
 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1996.08 |
设备完整不缺件,只有一个工艺腔,在日本; |
国外
|
 |
TEL MARK-VZ涂胶显影机(1C2D) |
TEL |
MARK-VZ |
1997 |
设备完整不缺件,4/5/6"1C2D,已经调试好; |
国内
|
|
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
1993 |
4/5/6"1C1D |
国内
|
|
TEL TE8500P ATC干法刻蚀机 |
TEL |
TE-8500P ATC |
1995.11 |
6"RIE SiO2 Etcher |
国内
|
|
TEL TE8500P ATC干法刻蚀机 |
TEL |
TE-8500P ATC |
1995.11 |
6"RIE SiO2 Etcher |
国内
|
|
TEL TE8500P干法刻蚀机 |
TEL |
TE-8500P |
- |
6"RIE SiO2 Etcher |
国内
|
|
TEL TE8500P ATC干法刻蚀机 |
TEL |
TE-8500P ATC |
1993.03 |
6"RIE SiO2 Etcher |
国内
|
 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1998 |
设备完整不缺件,已拆机在日本; |
国外
|
 |
TEL UnityIIe-855II刻蚀机 |
TEL |
UnityIIe-855II |
1996 |
设备完整不缺件,在日本仓库; |
国外
|
 |
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
2000 |
设备完整不缺件,在线热机在日本(1C 3D WEE); |
国外
|
 |
TEL ACT8涂胶显影机(2C2D) |
TEL |
ACT8 |
2003 |
设备完整不缺件; |
国外
|
 |
TEL P-12XL探针台 |
TEL |
P-12XL |
2005 |
12"设备完整不缺件,有4台+2台chiller现货在台湾,不必打 |
国内
|
 |
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
1999 |
设备完整不缺件,有22台现货; |
国内
|
 |
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
1999 |
设备完整不缺件,有17台现货; |
国内
|
 |
TEL P-12Xln探针台 |
TEL |
P-12Xln |
2005 |
设备完整不缺件,有5台现货,翻新的加1万美元; |
国内
|
|
TEL A-PM-90A探针台 |
TEL |
A-PM-90A |
- |
设备完整不缺件,有6台现货; |
国内
|
 |
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
- |
国外
|
 |
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
- |
- |
国外
|
 |
TEL NT333扩散炉 |
TEL |
NT333 |
2018 |
设备完整不缺件,有2套; |
国内
|
|
TEL MARK8涂胶显影机(2C2D) |
TEL |
MARK8 |
- |
8"设备完整不缺件; |
国内
|
|
TEL MAC-92CV掩膜版测试仪 |
TEL |
MAC-92CV |
1997 |
6"overlay; |
国内
|
|
TEL UL-2604-08L扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08L |
1990 |
6"四管卧式氧化; |
国内
|
|
TEL UL-2604-08-HS扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08-HS |
1988 |
6"四管卧式氧化; |
国内
|
|
TEL VDF610S扩散炉 |
TEL |
VDF610S |
1989 |
6"立式扩散; |
国内
|
|
TEL 20S探针台 |
TEL |
20S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机(第六批); |
国内
|
|
TEL 20S探针台 |
TEL |
20S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
|
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
- |
4",5",6"CP测试,设备完整不缺件,有多台现货; |
国内
|
|
TEL 20S探针台 |
TEL |
20S |
- |
4",5",6",8"CP测试,在线热机; |
国内
|
|
TEL 20S探针台 |
TEL |
20S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
|
TEL 20S探针台 |
TEL |
20S |
- |
4",5",6"CP测试,在线热机; |
国内
|
|
TEL P-8探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
4",5",6",8"CP测试,有多台现货; |
国内
|
|
TEL Trias METAL CVD化学气相沉积 |
TEL |
Trias |
- |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
|
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
- |
设备完整不缺件,有12台现货; |
国外
|
|
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
2001-2005 |
设备完整不缺件,有12台现货; |
国外
|
|
TEL TE480HGC干法刻蚀机 |
TEL |
TE480HGC |
1989 |
6"SIN刻蚀; |
国内
|
|
TEL TE5000干法刻蚀机 |
TEL |
TE5000 |
- |
6"SIO2刻蚀机; |
国内
|
|
TEL TE5000干法刻蚀机 |
TEL |
TE5000 |
- |
5"SIO2刻蚀,在线热机(第二批); |
国内
|
|
TEL TE5000S干法刻蚀机 |
TEL |
TE5000S |
- |
SIO2刻蚀,在线热机(第二批); |
国内
|
|
TEL VCF 615扩散炉 |
TEL |
VCF 615 |
- |
6"立式低压SIN CVD炉; |
国内
|
|
TEL Horizontal Furnace扩散炉 |
TEL |
Horizontal Furnace |
1989 |
6"四管卧式常压氧化; |
国内
|
|
TEL UL2604-10H扩散炉 |
TEL |
UL2604-10H |
- |
6" |
国内
|
|
TEL IW-6D扩散炉 |
TEL |
IW-6D |
1997 |
5"设备完整不缺件,立式氧化有多台现货; |
国内
|
|
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
- |
6"1C 1D 2MA 1AD 1COL 4HP WEE; |
国内
|
|
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
- |
6"1C 1D 1WEE MA 1AD 5HP 2COL; |
国内
|
|
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
- |
6"2D wEE 7HP 2COL MA CS; |
国内
|
|
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
- |
6"2C 1AD MA 3HP 2CP; |
国内
|
|
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
- |
6"2D 3CP 5HP MA Cs; |
国内
|
|
TEL MARK-VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK-VZ |
- |
6" |
国内
|
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1997.3 |
8",Turnkey加15万美元2C/1D; |
国内
|
|
TEL LITHIUS(4C4D)涂胶显影机 |
TEL |
LITHIUS |
2005.3 |
8"4C4D集成式; |
国内
|
|
TEL MARK-II涂胶显影机 |
TEL |
MARK-II |
1989 |
6"2D; |
国内
|
|
TEL MARK-II涂胶显影机 |
TEL |
MARK-II |
1989 |
6"2D; |
国内
|
|
TEL SVG-8800显影机 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6"2D; |
国内
|
|
TEL SVG-8800显影机 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6"2D; |
国内
|
|
TEL SVG-8800涂胶机 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6"2C; |
国内
|
|
TEL SVG-8800涂胶机 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6"2C; |
国内
|
|
TEL TE5000S干法刻蚀机 |
TEL |
TE5000S |
- |
- |
国内
|
|
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
- |
- |
国内
|
|
TEL IW-6C化学气相淀积炉 |
TEL |
IW-6C |
- |
- |
国内
|
|
TEL A-PM-60B探针台 |
TEL |
A-PM-60B |
1999 |
- |
国内
|
|
TEL RIW-601-B甩干机 |
TEL |
RIW-601-B |
1989 |
- |
国内
|
|
TEL TE 5000LEC刻蚀机 |
TEL |
TE 5000LEC |
1990 |
- |
国内
|
|
TEL TE-5000ATC刻蚀机 |
TEL |
TE-5000ATC |
1992 |
- |
国内
|
|
TEL TE-5000ATC刻蚀机 |
TEL |
TE-5000ATC |
1991 |
- |
国内
|
|
TEL UL-2604-08HS扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08HS |
1993 |
设备完整不缺件,有多台现货; |
国内
|
|
TEL UL-2604-08L扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08L |
1988 |
- |
国内
|
|
TEL UL-2604-08LS扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08LS |
1993 |
- |
国内
|
|
TEL ALPHA 602C立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA 602C |
1991 |
LP-CVD竖式; |
国内
|
|
TEL TE-8400P刻蚀机 |
TEL |
TE-8400P |
1996 |
- |
国内
|
|
TEL TE8500 PEATC刻蚀机 |
TEL |
TE-8500 PEATC |
1993 |
- |
国内
|
|
TEL TE8500 PE刻蚀机 |
TEL |
TE-8500 PE |
1993 |
- |
国内
|
|
TEL TE-8400P刻蚀机 |
TEL |
TE-8400P |
1995 |
- |
国内
|
|
TEL TE-8400P刻蚀机 |
TEL |
TE-8400P |
1995 |
- |
国内
|
|
TEL TE-5000 ATC刻蚀机 |
TEL |
TE-5000 ATC |
1991 |
- |
国内
|
|
TEL IW-6D立式扩散炉 |
TEL |
IW-6D |
2005 |
- |
国内
|
|
TEL IW-6D立式扩散炉 |
TEL |
IW-6D |
2005 |
- |
国内
|
|
TEL ALPHA 602C立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA 602C |
1991 |
- |
国内
|
|
TEL IW-6化学气相淀积炉 |
TEL |
IW-6 |
1996 |
- |
国内
|
|
TEL ALPHA 602C立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA 602C |
1991 |
- |
国内
|
|
TEL ALPHA 602C立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA 602C |
1991 |
- |
国内
|
|
TEL ALPHA 602C立式扩散炉 |
TEL |
ALPHA 602C |
1992 |
- |
国内
|
|
TEL TCE-4802刻蚀机 |
TEL |
TCE-4802 |
2000 |
- |
国内
|
|
TEL A-PM-60B探针台 |
TEL |
A-PM-60B |
2000 |
- |
国内
|
|
TEL A-PM-60B探针台 |
TEL |
A-PM-60B |
2000 |
- |
国内
|
|
TEL A-PM-60B探针台 |
TEL |
A-PM-60B |
1999 |
- |
国内
|
|
TEL A-PM-60B探针台 |
TEL |
A-PM-60B |
1999 |
- |
国内
|
|
TEL A-PM-60B探针台 |
TEL |
A-PM-60B |
1999 |
- |
国内
|
|
TEL IW-630S离子注入机 |
TEL |
IW-630S |
2001 |
- |
国内
|
|
TEL 19S探针台 |
TEL |
19S |
1989-1996 |
设备完整不缺件,有多台现货; |
国内
|
|
TEL A-PM-90A探针台 |
TEL |
A-PM-90A |
1999 |
- |
国内
|
|
TEL UL-2604-10H扩散炉 |
TEL |
UL-2604-10H |
1993 |
- |
国内
|
|
TEL ACT8涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
2014-12-17 |
已打包 |
国外
|
|
TEL Trias (SFD TIN)化学气相沉积设备 |
TEL |
Trias (SFD TIN) |
2007 |
300mm As-Is, Where-Is |
国外
|
|
TEL ACT-12涂胶显影机 |
TEL |
ACT-12 |
2004.4 |
300mm As-Is, Where-Is;不含硬盘 |
国外
|
|
TEL Trias CVD化学气相沉积设备 |
TEL |
Trias |
2003.11 |
300mm As-Is, Where-Is;不含硬盘 |
国外
|
|
TEL UW300Z晶圆清洗设备 |
TEL |
UW300Z |
2002.3 |
300mm As-Is, Where-Is;不含硬盘 |
国外
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|
TEL MARK-II涂胶显影机 |
TEL |
MARK-II |
1989 |
6" 2D |
国外
|
|
TEL MARK-II涂胶显影机 |
TEL |
MARK-II |
1989 |
6" 2D |
国外
|
|
TEL IW-6D扩散炉-重 |
TEL |
IW-6D |
1996 |
5" 立式氧化 |
国内
|
|
TEL IW-6D扩散炉-重 |
TEL |
IW-6D |
1997 |
5" 立式氧化 |
国内
|
|
TEL UL-2604-08-HS扩散炉-重 |
TEL |
UL-2604-08-HS |
1988 |
6" 四管卧式氧化 |
国内
|
|
TEL UL-2604-08-HS扩散炉-重 |
TEL |
UL-2604-08-HS |
1988 |
6" 四管卧式氧化 |
国内
|
|
TEL UL-2604-08L扩散炉-重 |
TEL |
UL-2604-08L |
1990 |
6" 四管卧式氧化 |
国内
|
|
TEL TE480HGC干法刻蚀机-重 |
TEL |
TE480HGC |
1989 |
6" SIN刻蚀 |
国内
|
|
TEL TE480HGC干法刻蚀机-重 |
TEL |
TE480HGC |
1989 |
6" SIN刻蚀 |
国内
|
|
TEL VDF610S立式扩散炉 |
TEL |
VDF610S |
1989 |
6" 立式扩散 |
国外
|
|
TEL MAC-92CV掩膜版测试仪-重 |
TEL |
MAC-92CV |
1997 |
6" overlay |
国内
|
 |
TEL LITHIUS涂胶显影机 |
TEL |
LITHIUS |
2005.3 |
8"暂停销售 |
已售出
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|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1994/1995 |
8"设备完整不缺件,有2台现货; |
国外
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|
TEL SVG-8800涂胶机 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6" 2C |
国外
|
|
TEL SVG-8800涂胶机 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6" 2C |
国外
|
|
TEL SVG-8800显影机 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6" 2D |
国外
|
|
TEL SVG-8800显影机 |
TEL |
SVG8800 |
- |
6" 2D |
国外
|
 |
TEL VESTA TAC-3WWZZZW干法刻蚀机 |
TEL |
TAC-3WWZZZW |
2007-2010 |
12"设备完整不缺件,有5台现货,共17个腔体(单套可1拖4-6腔 |
国内
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|
TEL Horizontal Furnace扩散炉 |
TEL |
Horizontal Furnace |
1989 |
6"四管卧式常压氧化; |
国外
|
|
TEL TE5000干法刻蚀机 |
TEL |
TE5000 |
- |
6"SIO2刻蚀机; |
国外
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|
TEL VCF 615扩散炉 |
TEL |
VCF 615 |
- |
6"立式低压SIN CVD炉; |
国外
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|
TEL INDYPLUS-B-M氧化炉 |
TEL |
INDYPLUS-B-M |
2013.06 |
300mm DIFF |
国外
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|
TEL INDYPLUS氧化扩散炉 |
TEL |
INDYPLUS |
- |
300mm DIFF |
国外
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|
TEL ALPHA-303I-H扩散炉 |
TEL |
ALPHA-303I-H |
2001.07 |
300mm DIFF |
国外
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|
TEL ALPHA-303I-H扩散炉 |
TEL |
ALPHA-303I-H |
2006.11 |
300mm DIFF |
国外
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|
TEL ALPHA-303I-K扩散炉 |
TEL |
ALPHA-303I-K |
2005.1 |
300mm DIFF |
国外
|
|
TEL ALPHA-303I-K扩散炉-重 |
TEL |
ALPHA-303I-K |
2005.11 |
300mm DIFF |
国外
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|
TEL FORMUAL-1S-H蚀刻和灰化设备 |
TEL |
FORMUAL-1S-H |
2005.01 |
300mm DIFF |
国外
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|
TEL TE5000干法刻蚀机 |
TEL |
TE5000 |
- |
5"有1台; |
国内
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|
TEL TE480刻蚀机 |
TEL |
TE480 |
- |
5",6"有2台; |
国内
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|
TEL TE580刻蚀机 |
TEL |
TE580 |
- |
6"有1台; |
国内
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页次：
1
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