| 日期-ID |
图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
报价(¥) |
详细配置 |
状 态 |
| 12.1-1629 |
 |
LAM Research EOS晶圆清洗设备(8腔) |
LAM |
Research EOS |
- |
手机或微信咨询 |
12"设备完整不缺件,缺控制板; |
国内
|
| 12.1-1677 |
 |
LAM Research EOS晶圆清洗设备(16腔) |
LAM |
Research EOS |
- |
手机或微信咨询 |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
| 12.1-1689 |
 |
LAM 2300e4 KIYO MCX刻蚀去胶一体机 |
LAM |
2300e4 KIYO MCX |
- |
手机或微信咨询 |
12"设备完整不缺件,金属刻蚀/去胶一体机; |
国内
|
| 12.1-1637 |
 |
LAM 2300 Exelan® Flex45™蚀刻机 |
LAM |
2300 Exelan® Flex45™ |
- |
手机或微信咨询 |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
| 12.1-1628 |
 |
LAM Vector Express CVD化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector Express CVD |
- |
手机或微信咨询 |
12"设备完整不缺件; |
国内
|
| 12.1-1693 |
 |
LAM 2300e5 KIYO MCX刻蚀去胶一体机 |
LAM |
2300e5 KIYO MCX |
- |
手机或微信咨询 |
12"设备完整不缺件,金属刻蚀/去胶一体机; |
国内
|
| 11.20-1101 |
 |
LAM Research EOS晶圆清洗设备(16腔) |
LAM |
Research EOS |
2015 |
手机或微信咨询 |
12"设备完整不缺件,无HDD; |
国外
|
| 11.20-1109 |
 |
LAM Research EOS晶圆清洗设备(8腔) |
LAM |
Research EOS |
2016 |
手机或微信咨询 |
12"设备完整不缺件,无HDD; |
国外
|
| 10.14-1557 |
 |
LAM 490干法刻蚀机 |
LAM |
490 |
1993/1995 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,有2台现货; |
国内
|
| 10.14-1558 |
 |
LAM RAINBOW 4520干法刻蚀机 |
LAM |
4520 |
1996/1997/ |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,有3台现货; |
国内
|
| 10.14-1559 |
 |
LAM 4400B干法刻蚀机 |
LAM |
4400B |
2000 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,有1台现货; |
国内
|
| 9.28-930 |
 |
LAM RAINBOW 4520干法刻蚀机 |
LAM |
4520 |
1997 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件; |
国内
|
| 8.17-1059 |
 |
LAM 4520XL二氧化硅RIE刻蚀机 |
LAM |
4520XL |
2019 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件; |
国内
|
| 7.30-4577 |
 |
LAM Concept Three Speed CVD气相沉积设备 |
LAM |
Concept Three Speed |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 7.18-4237 |
 |
LAM ALTUS(Chamber only)气相沉积设备 |
LAM |
ALTUS(Chamber only) |
- |
手机或微信咨询 |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 7.18-4238 |
 |
LAM ALTUS(Chamber only)气相沉积设备 |
LAM |
ALTUS(Chamber only) |
- |
手机或微信咨询 |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 7.18-4282 |
 |
LAM TORUS200蚀刻机 |
LAM |
TORUS200 |
- |
手机或微信咨询 |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 7.18-4283 |
 |
LAM TORUS200蚀刻机 |
LAM |
TORUS200 |
- |
手机或微信咨询 |
200mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 7.18-4435 |
 |
LAM INOVA物理气相沉积设备 |
LAM |
INOVA |
- |
手机或微信咨询 |
300mm设备完整不缺件; |
国外
|
| 6.20-3040 |
 |
LAM 2300 Exelan Flex蚀刻机 |
LAM |
2300 Exelan Flex |
2006 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,有2套现货; |
已售
|
| 6.13-3889 |
 |
LAM RAINBOW 4520 XLE刻蚀机 |
LAM |
4520XL |
2014 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件; |
国内
|
| 4.15-2698 |
 |
LAM SEZ223蚀刻机 |
LAM泛林 |
SEZ223 |
2006 |
手机或微信咨询 |
8"设备完整不缺件,含安装调试(6月下旬到国内); |
国内
|
| 4.15-1717 |
 |
LAM SEZ203蚀刻机 |
LAM泛林 |
SEZ203 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,含安装调试,有3台现货; |
国内
|
| 4.15-2799 |
 |
LAM SEZ203蚀刻机 |
LAM泛林 |
SEZ203 |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件; |
国内
|
| 1.15-4148 |
 |
LAM TCP9600SE等离子体刻蚀机 |
LAM |
TCP9600SE |
2005 |
手机或微信咨询 |
6"设备完整不缺件,150mm; |
国外
|
| 9.26-4141 |
 |
LAM RAINBOW 4520i干法刻蚀机 |
LAM |
4520i |
2000 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,在美国仓库中; |
国外
|
| 9.26-4140 |
 |
LAM RESEARCH 9400等离子刻蚀机 |
LAM |
9400 |
2000 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,在美国仓库中; |
国外
|
| 7.26-4057 |
 |
LAM SEZ FM101-6-B单片旋转腐蚀机 |
LAM泛林 |
FM101-6-B |
1998 |
手机或微信咨询 |
4-6" |
国内
|
| 7.26-4074 |
 |
LAM TE490干法刻蚀机 |
LAM |
TE490 |
- |
手机或微信咨询 |
6" |
国内
|
| 7.26-4073 |
 |
LAM TE490干法刻蚀机 |
LAM |
TE490 |
- |
手机或微信咨询 |
6" |
国内
|
| 7.26-4058 |
 |
LAM SEZ FS 103-6单片旋转腐蚀机 |
LAM泛林 |
FS 103-6 |
1996 |
手机或微信咨询 |
6" |
国内
|
| 6.23-4018 |
 |
LAM 2300 Exelan Flex蚀刻机 |
LAM |
2300 Exelan Flex |
- |
手机或微信咨询 |
4室Ath-1600涡轮增压+交流箱; |
国内
|
| 6.19-4010 |
 |
LAM C2 Triple SPEED气相沉积 |
LAM |
C2 Triple SPEED |
- |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件; |
国外
|
| 5.17-3907 |
 |
LAM 2300 Exelan Flex45 ICP蚀刻机 |
LAM |
2300 Exelan Flex45 |
- |
手机或微信咨询 |
设备型号:2300 Exelan Flex 45
类型:ICP蚀刻机
晶圆尺寸:12“
设备配置:
-有12条输气管线
-维持在纳米图案化转移能力和特别是嵌段共聚物、石墨烯和成型纳米结构蚀刻方面的活动
-C4F8、CF4、O2、 |
国外
|
| 3.29-3836 |
 |
LAM RAINBOW 4420等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
RAINBOW-4420 |
1994 |
手机或微信咨询 |
设备完整不缺件,目前在亚洲;
ISO蚀刻
晶圆尺寸200 mm
Fab截面蚀刻
软件版本1.5版
CIM-SECS
工艺CMOS
主系统LAM 4420 ETHER 1
处理器系统谐波臂2
工厂接口SMIF 2
LL泵1 |
已售
|
| 3.12-3822 |
 |
LAM RAINBOW 4520XL干法刻蚀机 |
LAM泛林 |
4520XL |
2000 |
手机或微信咨询 |
热机运行中,但风扇需要更换; |
国外
|
| 12.27-3523 |
 |
LAM 490B干法刻蚀机 |
LAM泛林 |
490B |
- |
手机或微信咨询 |
6"备件机; |
国内
|
| 11.2-2405 |
 |
LAM RAINBOW 4420等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
RAINBOW 4420 |
- |
手机或微信咨询 |
6" As-is |
国外
|
| 7.22-2334 |
 |
LAM RESEARCH 2300多晶硅蚀刻机 |
LAM泛林 |
2300 |
2005 |
手机或微信咨询 |
missing parts缺件:
Load port 1 missing,
Tube Controller 3pcs missing. |
已售
|
| 6.17-2313 |
 |
LAM RESEARCH 9400 SE等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
9400 SE |
1997 |
手机或微信咨询 |
整机完整不缺件 |
国外
|
| 5.22-2234 |
 |
LAM TCP9400氮化镓刻蚀机 |
LAM泛林 |
TCP9400(备用机) |
2018-12-24 |
手机或微信咨询 |
260台设备可打包或单独出售; |
已售
|
| 4.27-1986 |
 |
LAM Chambers for Altus原子层沉积设备 |
LAM泛林 |
Chambers for Altus |
- |
手机或微信咨询 |
12" |
国外
|
| 4.11-1977 |
 |
LAM RESEARCH EOS湿式晶圆清洗设备 |
LAM泛林 |
RESEARCH EOS |
- |
手机或微信咨询 |
- |
国外
|
| 10.1-1520 |
 |
LAM RAINBOW 4420等离子刻蚀机 |
LAM泛林 |
RAINBOW 4420 |
- |
手机或微信咨询 |
6" As-is |
国外
|
| 10.1-516 |
 |
LAM Strip45 Chamber Etch刻蚀机 |
LAM |
Strip45 Chamber |
2010 |
手机或微信咨询 |
Strip45 chamber only |
国外
|
| 10.1-515 |
 |
LAM Strip45 Chamber Etch刻蚀机 |
LAM |
Strip45 Chamber |
2010 |
手机或微信咨询 |
Strip45 chamber only |
国外
|
| 10.1-513 |
 |
LAM Strip45 Chamber Etch刻蚀机 |
LAM |
Strip45 Chamber |
2010 |
手机或微信咨询 |
Strip45 chamber only, Revolution AX7690LAM-23 |
国外
|
| 10.1-504 |
 |
LAM Vector SOLA xT CVD化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector SOLA xT |
2011 |
手机或微信咨询 |
UV Cure |
国外
|
| 10.1-489 |
 |
LAM Vector CVD化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector |
2004 |
手机或微信咨询 |
- |
国外
|
| 10.1-836 |
 |
LAM Vector CVD化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector |
2005 |
手机或微信咨询 |
Vector RPC |
国外
|
| 10.1-1160 |
 |
LAM Vector Express CVD化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector Express |
2011 |
手机或微信咨询 |
CVD34x, underutilized at FAB8, used
for old techs |
国外
|
| 10.1-1387 |
 |
LAM Synergy CMP薄膜沉积设备 |
LAM泛林 |
Synergy |
1997 |
手机或微信咨询 |
- |
国外
|
| 10.1-1651 |
 |
LAM RST201刻蚀机 |
LAM泛林 |
RST201 |
1997 |
手机或微信咨询 |
WET |
国外
|
| 10.1-1652 |
 |
LAM RST201刻蚀机 |
LAM泛林 |
RST201 |
1996 |
手机或微信咨询 |
WET |
国外
|
| 10.1-1653 |
 |
LAM TWO Speed PLASMA CVD薄膜沉积设备 |
LAM泛林 |
TWO Speed |
2000 |
手机或微信咨询 |
CVD |
国外
|
| 10.1-1654 |
 |
LAM TWO PLASMA CVD等离子化学气相沉积 |
LAM泛林 |
TWO |
2000 |
手机或微信咨询 |
CVD |
国外
|
| 10.1-1655 |
 |
LAM ONE-W PECVD等离子化学气相沉积 |
LAM泛林 |
ONE-W |
1995 |
手机或微信咨询 |
PECVD; |
国外
|
| 10.1-1159 |
 |
LAM Vector Express CVD化学气相沉积设备 |
LAM |
Vector Express |
2011 |
手机或微信咨询 |
- |
国外
|
页次:
1
/ 1页 每页:200 设备数:58
9[1]: 总共有1页
|
|