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| 图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
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AMAT Endura 5500 MOCVD气相沉积设备 |
AMAT |
Endura 5500 |
1996 |
6"PVD System,
Can |
国外
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AMAT P-5000 PECVD刻蚀机 |
AMAT |
P-5000 |
1999 |
美国6"2腔 |
国外
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AMAT P-5000 DRY ETCH刻蚀机 |
AMAT |
P-5000 |
1999 |
美国6"ESC 2腔 |
国外
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AMAT mirra MESA CMP化学机械抛光设备 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
2002 |
设备完整不缺件,已翻新在国内; |
国外
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AMAT Endura II PVD 9个腔室气相沉积设备 |
AMAT |
Endura II PVD 9 |
2007 |
12"设备完整不缺件,目前设备在韩国仓库 |
国外
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AMAT Endura II PVD 8个腔室气相沉积设备 |
AMAT |
Endura II PVD 8 |
2007 |
12"设备完整不缺件,目前设备在韩国仓库 |
国外
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AMAT Centura 5200刻蚀机 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
设备完整不缺件,8英寸3腔表观系统; |
国外
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AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
P5000 |
1996 |
CVD 3chamber;nitride |
国外
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YAMATO DKN402烤箱 |
YAMATO |
DKN402 |
- |
- |
国外
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AMAT 8310刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8310 |
1988.6 |
在购热机 6" 刻压点;18片/炉;最大 |
国外
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AMAT 8330刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1991.4 |
在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大 |
国外
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AMAT 8330刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1990.7 |
在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大 |
国外
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AMAT 8330刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1990.7 |
在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大 |
国外
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|
AMAT 8330刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1990.5 |
在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大 |
国外
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|
AMAT 8310刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8310 |
1991.5 |
在购热机 6" 刻压点;18片/炉;最大 |
国外
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|
AMAT 8310刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8310 |
1992.6 |
在购热机 6" 刻压点;18片/炉;最大 |
国外
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|
AMAT 8330刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1990.2 |
在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大 |
国外
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AMAT 8330刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
8330 |
1988.8 |
在购热机 6" 刻AL;18片/炉;最大 |
国外
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AMAT MATERIALS CENTURA ENABLER干法刻蚀设备 |
AMAT应用材料 |
MATERIALS CENTURA ENABLER |
2008 |
System
AC Rack
国外
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AMAT MATERIALS Centura HTF EPI外延沉积 |
AMAT应用材料 |
MATERIALS Centura HTF EPI Syst |
- |
美国已下线 |
国外
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AMAT Producer-GT CVD化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Producer-GT CVD |
- |
As-is |
国外
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|
AMAT mirra MESA CMP化学机械抛光设备 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
- |
FULL REPUB |
国外
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|
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
P5000 |
- |
8 REFURB |
国外
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|
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
P5000 |
- |
FULL REPUB |
国外
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|
AMAT Amat Centura2 DSP等离子化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Amat Centura2 DSP |
- |
8 As-is |
国外
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|
AMAT Centura Ultima HDP等离子化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Centura Ultima HDP |
- |
8 As-is |
国外
|
|
AMAT Centura Ultima等离子化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Centura Ultima |
- |
8 As-is |
国外
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|
AMAT Centura2 DPS+Poly Etch干法蚀刻机 |
AMAT应用材料 |
Centura2 DPS+Poly Etch |
- |
8 As-is |
国外
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|
AMAT P5000 PLIS刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
P5000 PLIS |
- |
翻新机Standard TEOS USG |
国外
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|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT |
2007 |
晶圆尺寸：300mm
生产者 GT： |
国外
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|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT |
2008 |
晶圆尺寸：300mm
生产者GT：配置 |
国外
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|
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
P5000 |
- |
2CH / 3CH |
国外
|
|
AMAT Vera SEM 3D测量系统 |
AMAT应用材料 |
Vera SEM 3D |
- |
Metrology |
国外
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|
AMAT Vera SEM 3D测量系统 |
AMAT应用材料 |
Vera SEM 3D |
- |
Metrology |
国外
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|
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
P5000 |
1995 |
2 chambers CVD
3 ch |
国外
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|
AMAT Centura 5200刻蚀机 |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
CVD System,6"(3)Cham |
国外
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|
AMAT MATERIALS CENTURA AP MINOS蚀刻机 |
AMAT应用材料 |
APPLIED MATERIALS CENTURA AP M |
- |
- |
国外
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|
AMAT 8310氧化物蚀刻器 |
AMAT应用材料 |
8310 |
- |
8" |
国外
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|
AMAT AKT-3500蚀刻机 |
AMAT应用材料 |
AKT-3500 |
2018 |
CVD |
国外
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|
AMAT Centura DPS刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura DPS |
1998 |
ETCH |
国外
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|
AMAT Centura DXZ刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura DXZ |
1999 |
CVD |
国外
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|
AMAT Centura MXP刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura MXP |
1997 |
ETCH |
国外
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|
AMAT Centura XE刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura XE |
2003 |
RTP |
国外
|
|
AMAT Centura XE+刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura XE+ |
2003 |
RTP |
国外
|
|
AMAT P-5000刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
P-5000 |
1990 |
CVD |
国外
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|
AMAT Centura DPS+Poly Etch等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS+Poly Etch |
- |
As-is |
国外
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AMAT Producer-GT CVD化学气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Producer-GT CVD |
- |
As-is |
国外
|
|
AMAT mirra MESA CMP化学机械抛光设备 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
- |
FULL REPUB |
国外
|
|
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
8" REFURB |
国外
|
|
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
- |
FULL REPUB |
国外
|
|
AMAT Centura DPS2 Metal等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Metal |
2005 |
EFEM(NT, Yaskawa), 3 |
国外
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|
AMAT Centura Axiom Chamber薄膜沉积设备 |
AMAT |
Centura Axiom Chamber |
2006 |
Axiom Only (w/VODM) |
国外
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|
AMAT P5000刻蚀机 |
AMAT |
P5000 |
1988 |
CVD Mark1, 3x DLH |
国外
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|
AMAT Reflexion FA抛光设备 |
AMAT |
Reflexion FA |
2005 |
CMP |
国外
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|
AMAT Vantage 5外延炉 |
AMAT |
Vantage 5 |
2012 |
RTP |
国外
|
|
AMAT Centura DPS2 Metal等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Metal |
2005 |
EFEM(Server, Yaskawa |
国外
|
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT |
2011 |
3 Twin(HARP USG, RPC |
国外
|
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT |
2010 |
1 Twin CH(ACL) only |
国外
|
|
AMAT Centura Enabler Etch刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura Enabler |
2007 |
- |
国外
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|
AMAT Centura Chamber刻蚀机 |
AMAT应用材料 |
Centura Chamber |
2010 |
2 x Minos, 1 x Carin |
国外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology扫描电子显微镜 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2002 |
MULTIPLE UNITS AVAIL |
国外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology扫描电子显微镜 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2002 |
ULTIPLE UNITS AVAILB |
国外
|
|
AMAT Centura Enabler Chamber蚀刻机 |
AMAT |
Centura Enabler Chamber |
2004 |
Condition : Very Goo |
国外
|
|
AMAT Vantage Vulcan外延炉 |
AMAT |
Vantage Vulcan |
2013 |
2 Chamber RTP System |
国外
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|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT |
2014 |
Parts Machine: 1 x P |
国外
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|
AMAT Olympia CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Olympia |
2015 |
2Ch ALD System, Sing |
国外
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|
AMAT ACMS XT II Component晶圆清洗 |
AMAT |
ACMS XT II |
2005 |
- |
国外
|
|
AMAT ACMS0XT-ASG-E Component清洗设备 |
AMAT |
ACMS0XT-ASG-E |
2006 |
- |
国外
|
|
AMAT UVision 5 Metrology光学检测计量设备 |
AMAT |
UVision 5 |
2011 |
- |
国外
|
|
AMAT UVision 5 Metrology光学检测计量设备 |
AMAT |
UVision 5 |
2012 |
300mm G1 Load Port 2 |
国外
|
|
AMAT Centura Carina Chamber Etch刻蚀机 |
AMAT |
Centura Carina Chamber |
- |
Chamber Only.
Carin |
国外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology扫描电子显微镜 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2004 |
Installed. Operatio |
国外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology扫描电子显微镜 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2004 |
Installed. Operatio |
国外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology扫描电子显微镜 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2004 |
Installed. Operatio |
国外
|
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT |
2015 |
3 Chamber: 1x SiCoNi |
国外
|
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT |
2016 |
Frontier FRONTIER et |
国外
|
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT |
2015 |
Frontier FRONTIER et |
国外
|
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT |
2017 |
Frontier FRONTIER et |
国外
|
|
AMAT Octane G2 assy气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Octane G2 assy |
1999 |
- |
国外
|
|
AMAT Octane G2 assy气相沉积 |
AMAT应用材料 |
Octane G2 assy |
1999 |
- |
国外
|
|
AMAT Endura CL PVD气相沉积设备 |
AMAT |
Endura CL |
2004 |
EFEM(2Ports, Kensing |
国外
|
|
AMAT Endura CL PVD气相沉积设备 |
AMAT |
Endura CL |
2004 |
EFEM(2Ports, Kensing |
国外
|
|
AMAT UVision 5 Metrology光学检测计量设备 |
AMAT应用材料 |
UVision 5 |
2012 |
2port(TDK TAS300), Y |
国外
|
|
AMAT Uvision 4量测设备 |
AMAT |
UVision 4 |
2009 |
[As-is]2ea*TDK load |
国外
|
|
AMAT Uvision 4量测设备 |
AMAT |
UVision 4 |
- |
Parts Sale Available |
国外
|
|
AMAT Centura DPS2 532 Metal等离子体蚀刻设备 |
AMAT应用材料 |
Centura DPS2 532 Metal |
2006 |
EFEM(Yaskawa), 2xDPS |
国外
|
|
AMAT Endura II气相沉积设备 |
AMAT |
Endura II |
2004 |
EFEM, TM, 2x PCII, 2 |
国外
|
|
AMAT Producer SE CVD化学气相沉积设备 |
AMAT应用材料 |
Producer SE |
2003 |
2 Twiin( HF_Apex3013 |
国外
|
|
AMAT Producer SE CVD化学气相沉积设备 |
AMAT应用材料 |
Producer SE |
2007 |
3Twin ACL(HF and LF |
国外
|
|
AMAT Producer GT CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer GT |
2003 |
Polisher STD, Desica |
国外
|
|
AMAT Centura DPS2 Poly Etch等离子体蚀刻设备 |
AMAT应用材料 |
Centura DPS2 Poly |
2007 |
EFEM, TM, 3x DPS2 Po |
国外
|
|
AMAT Centura DPS2 Poly Etch等离子体蚀刻设备 |
AMAT应用材料 |
Centura DPS2 Poly |
2006 |
EFEM, TM, 3x DPS2 Po |
国外
|
|
AMAT Centura DPS2 Poly Etch等离子体蚀刻设备 |
AMAT应用材料 |
Centura DPS2 Poly |
2006 |
EFEM(Kawasaki, Serve |
国外
|
|
AMAT Centura DPS2 AdvantEdge G等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 AdvantEdge G5 Mes |
2007 |
G5 Mesa. EFEM(Server |
国外
|
|
AMAT Centura DPS2 Chamber等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Chamber |
- |
DPS2 Poly Chamber, P |
国外
|
|
AMAT Centura DPS2 Chamber等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Chamber |
- |
DPS2 Poly Chamber, P |
国外
|
|
AMAT Centura DPS2 Chamber Etch等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Chamber |
- |
DPS2 Poly Chamber, P |
国外
|
|
AMAT Centura DPS2 Metal Etch等离子体蚀刻设备 |
AMAT |
Centura DPS2 Metal |
2005 |
EFEM(Server, Kawasak |
国外
|
|
AMAT Centura eMax CT+ Etch蚀刻机 |
AMAT |
Centura eMax CT+ |
2007 |
EFEM, TM, 3x eMax, A |
国外
|
|
AMAT Producer SE CVD化学气相沉积设备 |
AMAT |
Producer SE |
2009 |
2x BDII 1x UV Cure |
国外
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