|
|
| 图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
 |
TEL ALPHA-808SC LPCVD化学气相沉积 |
TEL |
ALPHA-808SC |
1994 |
设备完整不缺件; |
国外
|
 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
设备完整不缺件; |
国外
|
 |
TEL ALPHA 8S扩散炉 |
TEL |
ALPHA 8S |
1998 |
设备完整不缺件,有4台在美国; |
国外
|
 |
TEL TE-8500刻蚀机 |
TEL |
TE-8500 |
- |
设备完整不缺件,在韩国; |
国外
|
 |
TEL ACT8(2C2D)涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
2001 |
设备完整不缺件,韩国3台现货; |
国外
|
 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1996.08 |
设备完整不缺件,只有一个工艺腔,在日本; |
国外
|
 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1998 |
设备完整不缺件,已拆机在日本; |
国外
|
 |
TEL UnityIIe-855II刻蚀机 |
TEL |
UnityIIe-855II |
1996 |
设备完整不缺件,在日本仓库; |
国外
|
 |
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
2000 |
设备完整不缺件,在线热机在日本(1C 3 |
国外
|
 |
TEL ACT8(2C2D)涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
2003 |
设备完整不缺件; |
国外
|
 |
TEL P-8 Prober探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
- |
国外
|
 |
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
- |
- |
国外
|
 |
TEL ACT8涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
2014-12-17 |
已打包 |
国外
|
|
TEL Trias (SFD TIN)化学气相沉积设备 |
TEL |
Trias (SFD TIN) |
2007 |
300mm As-Is, Where-I |
国外
|
|
TEL Trias (SFD TIN)化学气相沉积设备 |
TEL |
Trias (SFD TIN) |
2007 |
300mm As-Is, Where-I |
国外
|
|
TEL ACT-12涂胶显影机 |
TEL |
ACT-12 |
2004.4 |
300mm As-Is, Where-I |
国外
|
|
TEL Trias化学气相沉积 |
TEL |
Trias |
2003.11 |
300mm As-Is, Where-I |
国外
|
|
TEL UW300Z晶圆清洗设备 |
TEL |
UW300Z |
2002.3 |
300mm As-Is, Where-I |
国外
|
|
TEL MARK-II涂胶显影机 |
TEL |
MARK-II |
1989 |
6" 2D |
国外
|
|
TEL MARK-II涂胶显影机 |
TEL |
MARK-II |
1989 |
6" 2D |
国外
|
|
TEL IW-6D扩散炉 |
TEL |
IW-6D |
1996 |
5" 立式氧化 |
国外
|
|
TEL IW-6D扩散炉 |
TEL |
IW-6D |
1997 |
5" 立式氧化 |
国外
|
|
TEL UL-2604-08-HS扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08-HS |
1988 |
6" 四管卧式氧化 |
国外
|
|
TEL UL-2604-08-HS扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08-HS |
1988 |
6" 四管卧式氧化 |
国外
|
|
TEL UL-2604-08L扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08L |
1990 |
6" 四管卧式氧化 |
国外
|
|
TEL TE480HGC干法刻蚀机 |
TEL |
TE480HGC |
1989 |
6" SIN刻蚀 |
国外
|
|
TEL TE480HGC干法刻蚀机 |
TEL |
TE480HGC |
1989 |
6" SIN刻蚀 |
国外
|
|
TEL VDF610S立式扩散炉 |
TEL |
VDF610S |
1989 |
6" 立式扩散 |
国外
|
|
TEL MAC-92CV掩膜版测试仪 |
TEL |
MAC-92CV |
1997 |
6" overlay |
国外
|
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1997.3 |
8" 2C/1D |
国外
|
|
TEL Horizontal Furnace扩散炉 |
TEL |
Horizontal Furnace |
1989 |
6"四管卧式常压氧化; |
国外
|
|
TEL TE5000干法刻蚀机 |
TEL |
TE5000 |
- |
6"SIO2刻蚀机; |
国外
|
|
TEL VCF 615扩散炉 |
TEL |
VCF 615 |
- |
6"立式低压SIN CVD炉; |
国外
|
|
TEL INDYPLUS-B-M氧化炉 |
TEL |
INDYPLUS-B-M |
2013.06 |
300mm DIFF |
国外
|
|
TEL INDYPLUS氧化扩散炉 |
TEL |
INDYPLUS |
- |
300mm DIFF |
国外
|
|
TEL ALPHA-303I-H扩散炉 |
TEL |
ALPHA-303I-H |
2001.07 |
300mm DIFF |
国外
|
|
TEL ALPHA-303I-H扩散炉 |
TEL |
ALPHA-303I-H |
2006.11 |
300mm DIFF |
国外
|
|
TEL ALPHA-303I-K扩散炉 |
TEL |
ALPHA-303I-K |
2005.1 |
300mm DIFF |
国外
|
|
TEL ALPHA-303I-K扩散炉 |
TEL |
ALPHA-303I-K |
2005.11 |
300mm DIFF |
国外
|
|
TEL FORMUAL-1S-H蚀刻和灰化设备 |
TEL |
FORMUAL-1S-H |
2005.01 |
300mm DIFF |
国外
|
|
TEL MARK-VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK-VZ |
- |
As-is 2C2D |
国外
|
|
TEL P-12XL Probe探针台 |
TEL |
P-12XL Probe |
- |
12" As-is |
国外
|
|
TEL ACT12涂胶显影机 |
TEL |
ACT12 |
- |
12 As-is |
国外
|
|
TEL ACT8(2C4D)涂胶显影机 |
TEL |
ACT8(2C4D) |
- |
8 working |
国外
|
|
TEL ALPHA 8S扩散炉 |
TEL |
ALPHA 8S |
- |
8 As-is |
国外
|
|
TEL ACT12涂胶显影机 |
TEL |
ACT12 |
- |
12 Parts MC |
国外
|
|
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
6 As-is 1C2D |
国外
|
|
TEL 8S-E立式扩散炉 |
TEL |
8S-E POLC3 |
- |
6,8 working |
国外
|
|
TEL INDY Plus-B-M化学气相沉积设备 |
TEL |
INDY Plus-B-M |
2010 |
12"Furance |
国外
|
|
TEL TE8500刻蚀机 |
TEL |
TE8500 |
- |
6" Dry Etch |
国外
|
|
TEL Telius SP干法刻蚀机 |
TEL |
Telius SP |
- |
Dry Etch |
国外
|
|
TEL SCCM TE干法刻蚀机 |
TEL |
SCCM TE |
- |
Dry Etch |
国外
|
|
TEL TE-8401刻蚀机 |
TEL |
TE-8401 |
1996 |
Dry Etcher |
国外
|
|
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
2C 3D生产线工作条件 |
国外
|
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
1C 2D原样仓库 |
国外
|
|
TEL LITHIUS清洗设备 |
TEL |
LITHIUS |
2003.12 |
韩国价 |
国外
|
|
TEL SP-308蚀刻去胶设备 |
TEL |
SP-308 |
2007 |
按现状,有3台 |
国外
|
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
- |
国外
|
|
TEL ACT8(2C2D)涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
1998 |
PHOTOLITHO |
国外
|
|
TEL Alpha-8SE高温扩散炉 |
TEL |
Alpha-8SE |
2005 |
DIFFUSION |
国外
|
|
TEL IW-6C CVD气相沉积管式炉 |
TEL |
IW-6C |
1994 |
FURNACE |
国外
|
|
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
1993 |
WET |
国外
|
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1999 |
PHOTOLITHO |
国外
|
|
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
1992 |
PHOTOLITHO |
国外
|
|
TEL MARK-VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK-VZ |
1998 |
PHOTOLITHO |
国外
|
|
TEL P-12XLn探针台 |
TEL |
P-12XL |
2002 |
TEST |
国外
|
|
TEL P-12XLn探针台 |
TEL |
P-12XL |
2002 |
TEST |
国外
|
|
TEL P-12XLn探针台 |
TEL |
P-12XLn |
2006 |
TEST |
国外
|
|
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
2000 |
TEST |
国外
|
|
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
2004 |
TEST |
国外
|
|
TEL P-8XL探针台 |
TEL |
P-8XL |
2008 |
TEST |
国外
|
|
TEL SS-4湿法处理设备 |
TEL |
SS-4 |
2001 |
WET |
国外
|
|
TEL SS-4湿法处理设备 |
TEL |
SS-4 |
2003 |
WET |
国外
|
|
TEL TACTRAS刻蚀机 |
TEL |
TACTRAS |
2013 |
ETCH |
国外
|
|
TEL TE5000干法刻蚀机 |
TEL |
TE5000 |
1992 |
ETCH |
国外
|
|
TEL TE8500蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
2000 |
ETCH |
国外
|
|
TEL TE8500蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
1992 |
ETCH |
国外
|
|
TEL TE8500蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
1993 |
ETCH |
国外
|
|
TEL TE8500蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
1995 |
ETCH |
国外
|
|
TEL TE8500蚀刻机 |
TEL |
TE8500 |
1995 |
ETCH |
国外
|
|
TEL Telius SCCM干法蚀刻机 |
TEL |
Telius SCCM |
2000 |
ETCH |
国外
|
|
TEL Unity Me 85D干法蚀刻机 |
TEL |
Unity Me 85D |
2003 |
ETCH |
国外
|
|
TEL UnityII-855II干法蚀刻机 |
TEL |
UnityII-855II |
1996 |
ETCH |
国外
|
|
TEL UnityII-855II干法蚀刻机 |
TEL |
UnityII-855II |
1996 |
ETCH |
国外
|
|
TEL UnityIIe-655II干法蚀刻机 |
TEL |
UnityIIe-655II |
2002 |
ETCH |
国外
|
|
TEL UnityII-855II干法蚀刻机 |
TEL |
UnityIIe-855II |
1997 |
ETCH |
国外
|
|
TEL UnityII-855II干法蚀刻机 |
TEL |
UnityIIe-855II |
2002 |
ETCH |
国外
|
|
TEL UnityIIe-855SS干法蚀刻机 |
TEL |
UnityIIe-855SS |
2000 |
ETCH |
国外
|
|
TEL UnityIIe-855SS干法蚀刻机 |
TEL |
UnityIIe-855SS |
2006 |
ETCH |
国外
|
|
TEL P-12XL探针台 |
TEL |
P-12XL Probe |
- |
12" As-is |
国外
|
|
TEL MARK-VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK-VZ |
- |
As-is 2C2D |
国外
|
|
TEL ACT8(2C4D)涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
- |
- |
国外
|
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
working track (2c1d) |
国外
|
|
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
200 As-is Single Blo |
国外
|
 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1996 |
- |
国外
|
|
TEL ACT12涂胶显影机 |
TEL |
ACT12 |
- |
300 As-is |
国外
|
|
TEL ACT8涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
- |
200 As-is |
国外
|
|
TEL LITHIUS Pro-i涂胶显影机 |
TEL |
LITHIUS Pro-i |
2007 |
9COT 3DEV with many |
国外
|
|
TEL LITHIUS涂胶显影机 |
TEL |
LITHIUS |
2007 |
5C5D, Inlined type(A |
国外
|
|
TEL Trias CVD化学气相沉积设备 |
TEL |
Trias |
2004 |
4 x CVD TiN, 3 x lo |
国外
|
页次：
1
/ 3页 每页：100 设备数：212
9[1][2][3]: 总共有3页
|
|
|
二手半导体设备买卖-二手半导体设备翻新-二手半导体设备交易平台semi1688.com
|
| 二手半导体设备买卖+翻新 龙先生18868521984(微) |
| 注：设备状态不定期更新，是否已售出请咨询。 |
|
