|
|
| 图 片 |
设备名称 |
制造商 |
型号 |
年份 |
详细配置 |
状 态 |
 |
TEL TE-8500刻蚀机 |
TEL |
TE-8500 |
- |
设备完整不缺件,在韩国; |
国外
|
 |
TEL ACT8(2C2D)涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
2001 |
设备完整不缺件,韩国3台现货; |
国外
|
 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1996.08 |
设备完整不缺件,只有一个工艺腔,在日本; |
国外
|
 |
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1998 |
设备完整不缺件,已拆机在日本; |
国外
|
 |
TEL UnityIIe-855II刻蚀机 |
TEL |
UnityIIe-855II |
1996 |
设备完整不缺件,在日本仓库; |
国外
|
 |
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
2000 |
设备完整不缺件,在线热机在日本(1C 3 |
国外
|
 |
TEL ACT8(2c2d)涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
2003 |
设备完整不缺件; |
国外
|
 |
TEL P-8 Prober探针台 |
TEL |
P-8 |
- |
- |
国外
|
 |
TEL P-8XL Prober探针台 |
TEL |
P-8XL |
- |
- |
国外
|
 |
TEL ACT8涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
2014-12-17 |
已打包 |
国外
|
|
TEL Trias (SFD TIN ) |
TEL |
Trias (SFD TIN ) |
2007 |
300mm As-Is, Where-I |
国外
|
|
TEL Trias (SFD TIN ) |
TEL |
Trias (SFD TIN ) |
2007 |
300mm As-Is, Where-I |
国外
|
|
TEL ACT-12涂胶显影机 |
TEL |
ACT-12 |
2004.4 |
300mm As-Is, Where-I |
国外
|
|
TEL Trias |
TEL |
Trias |
2003.11 |
300mm As-Is, Where-I |
国外
|
|
TEL UW300Z |
TEL |
UW300Z |
2002.3 |
300mm As-Is, Where-I |
国外
|
|
TEL MARK-II涂胶显影机 |
TEL |
MARK-II |
1989 |
6" 2D |
国外
|
|
TEL MARK-II涂胶显影机 |
TEL |
MARK-II |
1989 |
6" 2D |
国外
|
|
TEL IW-6D扩散炉 |
TEL |
IW-6D |
1996 |
5" 立式氧化 |
国外
|
|
TEL IW-6D扩散炉 |
TEL |
IW-6D |
1997 |
5" 立式氧化 |
国外
|
|
TEL UL-2604-08-HS扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08-HS |
1988 |
6" 四管卧式氧化 |
国外
|
|
TEL UL-2604-08-HS扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08-HS |
1988 |
6" 四管卧式氧化 |
国外
|
|
TEL UL-2604-08L扩散炉 |
TEL |
UL-2604-08L |
1990 |
6" 四管卧式氧化 |
国外
|
|
TEL TE480HGC干法刻蚀机 |
TEL |
TE480HGC |
1989 |
6" SIN刻蚀 |
国外
|
|
TEL TE480HGC干法刻蚀机 |
TEL |
TE480HGC |
1989 |
6" SIN刻蚀 |
国外
|
|
TEL VDF610S立式扩散炉 |
TEL |
VDF610S |
1989 |
6" 立式扩散 |
国外
|
|
TEL MAC-92CV掩膜版测试仪 |
TEL |
MAC-92CV |
1997 |
6" overlay |
国外
|
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1997.3 |
8" 2C/1D |
国外
|
|
TEL Horizontal Furnace扩散炉 |
TEL |
Horizontal Furnace |
1989 |
6" 四管卧式常压氧化 |
国外
|
|
TEL TE5000干法刻蚀机 |
TEL |
TE5000 |
- |
6" SIO2刻蚀机 |
国外
|
|
TEL VCF 615扩散炉 |
TEL |
VCF 615 |
- |
6" 立式低压SIN CVD炉 |
国外
|
|
TEL INDYPLUS-B-M |
TEL |
INDYPLUS-B-M |
2013.06 |
300mm DIFF |
国外
|
|
TEL INDYPLUS- |
TEL |
INDYPLUS- |
- |
300mm DIFF |
国外
|
|
TEL ALPHA-303I-H |
TEL |
ALPHA-303I-H |
2001.07 |
300mm DIFF |
国外
|
|
TEL ALPHA-303I-H |
TEL |
ALPHA-303I-H |
2006.11 |
300mm DIFF |
国外
|
|
TEL ALPHA-303I-K |
TEL |
ALPHA-303I-K |
2005.1 |
300mm DIFF |
国外
|
|
TEL ALPHA-303I-K |
TEL |
ALPHA-303I-K |
2005.11 |
300mm DIFF |
国外
|
|
TEL FORMUAL-1S-H |
TEL |
FORMUAL-1S-H |
2005.01 |
300mm DIFF |
国外
|
|
TEL MARK-VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK-VZ |
- |
As-is 2C2D |
国外
|
|
TEL P-12XL Probe |
TEL |
P-12XL Probe |
- |
12" As-is |
国外
|
|
TEL ACT12 Single Block |
TEL |
ACT12 Single Block |
- |
12 As-is |
国外
|
|
TEL ACT8 2C4D, Double Block |
TEL |
ACT8 2C4D,Double Block |
- |
8 working |
国外
|
|
TEL ALPHA 8S |
TEL |
ALPHA 8S |
- |
8 As-is |
国外
|
|
TEL ACT12 |
TEL |
ACT12 |
- |
12 Parts MC |
国外
|
|
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
6 As-is 1C2D |
国外
|
|
TEL 8S-E POLC3 |
TEL |
8S-E POLC3 |
- |
6,8 working |
国外
|
|
TEL INDY Plus-B-M 12" |
TEL |
INDY Plus-B-M |
2010 |
Furance |
国外
|
|
TEL TE8500刻蚀机 |
TEL |
TE8500P |
- |
6" Dry Etch |
国外
|
|
TEL Telius SP 12" |
TEL |
Telius SP |
- |
Dry Etch |
国外
|
|
TEL SCCM TE 12" |
TEL |
SCCM TE |
- |
Dry Etch |
国外
|
|
TEL TE-8401 8" |
TEL |
TE-8401 |
1996 |
Dry Etcher |
国外
|
|
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
2C 3D生产线工作条件 |
国外
|
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
1C 2D原样仓库 |
国外
|
|
TEL LITHIUS清洗设备 |
TEL |
LITHIUS |
2003.12 |
韩国价 |
国外
|
|
TEL SP-308蚀刻去胶设备 |
TEL |
SP-308 |
2007 |
按现状,有3台 |
国外
|
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
- |
国外
|
|
TEL ACT8(2C2D)涂胶显影机 |
TEL |
ACT8 |
1998 |
PHOTOLITHO |
国外
|
|
TEL Alpha-8SE DIFFUSION |
TEL |
Alpha-8SE |
2005 |
DIFFUSION |
国外
|
|
TEL IW-6C FURNACE_LP-CVD |
TEL |
IW-6C |
1994 |
FURNACE |
国外
|
|
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
1993 |
WET |
国外
|
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
1999 |
PHOTOLITHO |
国外
|
|
TEL MARK-V涂胶显影机 |
TEL |
MARK-V |
1992 |
PHOTOLITHO |
国外
|
|
TEL MARK-VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK-VZ |
1998 |
PHOTOLITHO |
国外
|
|
TEL P-12XL |
TEL |
P-12XL |
2002 |
TEST |
国外
|
|
TEL P-12XL |
TEL |
P-12XL |
2002 |
TEST |
国外
|
|
TEL P-12XLn |
TEL |
P-12XLn |
2006 |
TEST |
国外
|
|
TEL P-8XL |
TEL |
P-8XL |
2000 |
TEST |
国外
|
|
TEL P-8XL |
TEL |
P-8XL |
2004 |
TEST |
国外
|
|
TEL P-8XL |
TEL |
P-8XL |
2008 |
TEST |
国外
|
|
TEL SS-4 |
TEL |
SS-4 |
2001 |
WET |
国外
|
|
TEL SS-4 |
TEL |
SS-4 |
2003 |
WET |
国外
|
|
TEL TACTRAS |
TEL |
TACTRAS |
2013 |
ETCH |
国外
|
|
TEL TE5000ATC |
TEL |
TE5000ATC |
1992 |
ETCH |
国外
|
|
TEL TE8500(S) |
TEL |
TE8500(S) |
2000 |
ETCH |
国外
|
|
TEL TE8500(S)ATC |
TEL |
TE8500(S)ATC |
1992 |
ETCH |
国外
|
|
TEL TE8500(S)ATC |
TEL |
TE8500(S)ATC |
1993 |
ETCH |
国外
|
|
TEL TE8500(S)ATC |
TEL |
TE8500(S)ATC |
1995 |
ETCH |
国外
|
|
TEL TE8500ATC |
TEL |
TE8500ATC |
1995 |
ETCH |
国外
|
|
TEL Telius SCCM |
TEL |
Telius SCCM |
2000 |
ETCH |
国外
|
|
TEL Unity Me 85D |
TEL |
Unity Me 85D |
2003 |
ETCH |
国外
|
|
TEL UnityII-855II |
TEL |
UnityII-855II |
1996 |
ETCH |
国外
|
|
TEL UnityII-855II |
TEL |
UnityII-855II |
1996 |
ETCH |
国外
|
|
TEL UnityIIe-655II |
TEL |
UnityIIe-655II |
2002 |
ETCH |
国外
|
|
TEL UnityII-855II |
TEL |
UnityIIe-855II |
1997 |
ETCH |
国外
|
|
TEL UnityII-855II |
TEL |
UnityIIe-855II |
2002 |
ETCH |
国外
|
|
TEL UnityIIe-855SS |
TEL |
UnityIIe-855SS |
2000 |
ETCH |
国外
|
|
TEL UnityIIe-855SS |
TEL |
UnityIIe-855SS |
2006 |
ETCH |
国外
|
|
TEL P-12XL Probe |
TEL |
P-12XL Probe |
- |
12" As-is |
国外
|
|
TEL MARK-VZ涂胶显影机 |
TEL |
MARK-VZ |
- |
As-is 2C2D |
国外
|
|
TEL ACT8 2C4D, Double Block |
TEL |
ACT8 2C4D, Double Block |
- |
working |
国外
|
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
working track (2c1d) |
国外
|
|
TEL MARK7涂胶显影机 |
TEL |
MARK7 |
- |
200 As-is Single Blo |
国外
|
|
TEL MARK8涂胶显影机 |
TEL |
MARK8 |
- |
200 As-is Single Blo |
国外
|
|
TEL ACT12 Single Block |
TEL |
ACT12 Single Block |
- |
300 As-is |
国外
|
|
TEL ACT8 Single Block |
TEL |
ACT8 Single Block |
- |
200 As-is |
国外
|
|
TEL LITHIUS Pro-i |
TEL |
LITHIUS Pro-i |
2007 |
9COT 3DEV with many |
国外
|
|
TEL LITHIUS涂胶显影机 |
TEL |
LITHIUS |
2007 |
5C5D, Inlined type(A |
国外
|
|
TEL Trias CVD |
TEL |
Trias |
2004 |
4 x CVD TiN, 3 x lo |
国外
|
|
TEL Trias CVD |
TEL |
Trias |
2011 |
Trias E+, UV RF CH x |
国外
|
|
TEL Trias CVD |
TEL |
Trias |
2006 |
Ti Ch x2, TiN Ch x2, |
国外
|
|
TEL Trias CVD |
TEL |
Trias |
2012 |
3CH |
国外
|
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| 注：设备状态不定期更新，是否已售出请咨询。 |
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